二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9275996 待售

ID: 9275996
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Resist coater / Developer system, 12" Multi block Track 1: (2) Coater cups (2) BCT cups (4) Developer cups Track 2: Resist reduction: RRC Dev nozzle: LD Nozzle Resist pump: RDS 4ml Oven: Dehyde bake: (4) CLHP COT: (9) CPHP PEB: (6) CPHP Post bake: (5) CLHP (2) ADH Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73, LA95 Does not include HDD 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一種用於半導體工業的光刻設備,用於在晶圓上制作精細蝕刻圖案。它是市場上最先進的光刻膠技術之一。該系統利用復雜的光控制和圖樣機構,使晶圓的表面能夠精確蝕刻。第一步是在晶片表面上塗上一層薄薄的正音光刻膠。光致抗蝕劑隨後被暴露在高強度的紫外線光源下,根據所需的圖樣有選擇地調制光致抗蝕劑的曝光。然後將此圖樣傳輸到晶圓表面,並準備進行蝕刻過程。TEL Clean Track Lithius單元附有精密的光控制功能,如激光LDI(laser Direct Imaging)光學器件、八通道步進運動控制裝置,以及一臺用於均勻曝光光刻膠的快速反饋機。如果需要,用戶還可以選擇切換到接觸曝光選項。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius采用的先進光刻膠技術也使得該工具適合於多種光刻膠去除工藝。這允許用戶同時在晶片上印上幾個精細的蝕刻細節。該資產還提供各種不同的光刻膠品種,從而可以實現更量身定制的蝕刻圖樣。Clean Track Lithius光致抗蝕劑模型是尋求高效、精確、管理良好的蝕刻工藝的半導體制造商的絕佳選擇。其精密的特性、用戶友好的操作和可靠性,使其成為許多行業所需的光刻設備。
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