二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375513 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
ID: 9375513
優質的: 2005
System Single block Stand alone system (2) Coat cups (3) Developer cups ADH Resist reduction: RRC Developer nozzle: SH, NLD Resist pump: RDS 10ml, CRD 4ml Ovens: (2) Coat: CPHP (2) Developer: CPHP Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73 Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款設計用於半導體和電子制造的光阻設備。該系統利用先進的抗蝕劑工藝,在晶片和其他基材上沈積光聚合物光致抗蝕劑,並對其進行圖案化。Lithius單元具有多種特性,使其成為要求苛刻的半導體工藝中的一個有吸引力的選擇,在這種工藝中,光致抗蝕劑沈積的精確對準和均勻性至關重要。機器的正面曝光室提供沿其整個寬度的均勻且控制良好的抵抗暴露,沿整個晶片提供高質量的圖案。所使用的投影光學器件可確保抗蝕劑成像在晶片的中心與邊緣之間保持一致,且表面移動均勻,且無遺漏或未對齊的圖案。除了性能優越的光學外,Lithius工具的另一個主要元素是其先進的抗蝕劑處理。提供自動對焦控制和三點對準等功能,以確保所有接觸點都幹凈並處於適當位置,從而實現準確的沈積和圖樣化。采用的三點對準技術也保證了正確的抗蝕劑施用量,塗層既一致又均勻。此外,TEL Clean Track Lithius還配備了一套集成的安全功能和選項。這包括主動和被動ESD保護、靜態中和特性和大氣監測設備。這些功能有助於確保整個過程中用戶和組件的安全。所有這些功能協同工作,以最小的努力為TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius資產的用戶提供高度準確和一致的結果。其優越的性能和安全特性使其成為半導體工業中要求苛刻和高精度光刻工藝的首選模型。
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