二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375518 待售
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ID: 9375518
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
System, 12"
Multi block
(4) FOUP (25 wafers)
Left to right
High speed IBFM
(4) Coat modules
RGEN02 Pumps (4ml type)
(7) Resist nozzles
Resist temp control
Top side EBR
RRC PRE Wet
(4) Develop modules
SH Nozzle
Top side rinse
Develop temp control
(2) ADH
(4) HCP (High speed CPL)
(4) Low Hot Plate (LHP)
(9) Chilling High Precision Hot Plate (CPHP)
(2) Water Chilling Plate (WCPL)
IHCP
Cup Wash Holder (CWH)
BWEE
(2) TRS
(2) Cup T&H Control units
Chemical box
ASML Interface
HDD Not included
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款為先進的半導體光刻工藝而設計的光刻設備。它是業界首個「NO HOOD」系統,在不影響性能的前提下最大化潔凈室空間。該單元采用了專有的真空卡盤技術,提供了優越的非接觸式真空晶片保持和提高對準精度。TEL Clean Track Lithius支持完整的SAED步驟和重復、3D縫合以及覆蓋對齊對齊器。它還提供了改進的多項目晶圓處理功能,減少了粒子數量,以及對齊器的停滯時間消除。此外,這臺機器大大減少了裝卸周期的時間。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius支援各種光刻膠進行光刻圖案。其中包括分辨率優於0.25微米的深亞微米(DSM)抗蝕劑,以及具有亞微米分辨率的高長寬比(HAR)抗蝕劑和熱兼容性抗蝕劑(TCR)。一旦選擇了抗蝕劑,Clean Track Lithius將為該過程準備一個獨特的集成計劃。此計劃與專有的光刻膠配方數據庫協同工作,為每一層創建最佳的作業配方。它還與原位等離子體後烘烤和直接手柄晶片傳遞相關,以實現最大的晶片到晶片的可重復性。最後,利用集成的分選功能改進了模式匹配.TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius可以同時管理批處理和連續處理。它還可以將多層集成到單個作業中,以提高圖像連續性。最後,該工具提供了內置的過程監控和晶圓質量控制,確保了一致的、可重復的結果。TEL Clean Track Lithius是用於先進半導體光刻工藝的可靠、易於使用的解決方案。其專有的真空卡盤技術、內置的過程監控功能以及全面的集成計劃使其成為精確陣列需求的理想選擇。
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