二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 5z #9198153 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 5z是一種用於生產微電子器件的光刻設備。它以提供優越的粒子和靜電放電效果的行業領先能力以及優越的潔凈室和工廠產量而聞名。Mark 5z是生產集成電路（IC）、OLED、LED和其他需要極端清潔的設備中必不可少的工具。光刻膠系統由兩個主要組件組成：激光曝光單元和溶液曝光機。激光曝光工具使用聚焦激光量子精確投射光圖樣的基板上已經塗有感光材料。通過仔細調整光強度和圖樣，材料就會暴露出來，轉化成光刻膠層。然後在化學蝕刻過程中將光刻膠層用作蝕刻面膜，用於生產微電子器件的組件。基於溶液的曝光資產將底物精確地浸泡在含有感光化學品的液體中。這些化學物質對特定的光強度產生反應，產生所需形狀的光致抗蝕層。該曝光模型適用於激光設備無法精確曝光的微觀結構。Mark 5z使用三個不同的階段，以確保光刻膠工藝的最高產量和可靠性。該工藝的第一階段包括預處理，在預處理中，為光致抗蝕劑的應用制備基材。這包括去除表面汙染物、沖洗、加熱幹燥和金屬沈積，所有這些都有助於確保光致抗蝕劑均勻牢固地粘附。第二階段是光致抗蝕劑層構造，在此期間使用激光和溶液曝光系統。在這一階段，基板要麼噴塗光致抗蝕劑材料，要麼暴露在激光或液體中。這創造了對所提供設計的精確復制，允許高度精確地制造復雜的微電子結構。該過程的第三個階段是發展階段，在此期間，過量的化學物質通過烘烤模式來提升和去除光致抗蝕層。然後使用多種技術清除有害材料。一旦開發過程完成，基板就準備好進一步加工和使用。總體而言，TEL CleanTrackMark 5z是一種可靠的光阻系統，能夠產生高產和元件完美。它用於許多行業，以滿足當今日益精密的微電子器件的需求。