二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293632604 待售
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單擊可縮放
ID: 293632604
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Single block
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7光刻膠設備是光刻的高端技術，用於生產高端電子產品。廣泛用於制造半導體集成電路（IC）和印刷電路板（PCB）。TEL Clean Track Mark 7系統提供最先進的功能,以確保光掩模的清潔高效生產。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7提供多區域、多圖案曝光工藝和防反射塗層等高級功能。這使得該單元產生的光掩碼更加精確、可預測和一致。這臺機器還采用了一種高端的「超場」技術，這種技術提供了最大的光照均勻性。這確保了整個光掩模的精確和均勻曝光。「超場」技術還允許在晶圓上直接曝光，用於其他應用，如曝光後烘烤（PEB）解決方案。資產還有一個內置的數據傳輸模型，用於與主機系統通信。此功能允許從設備快速下載和分析數據。Clean Track Mark 7光刻膠系統還具有集成溫度控制、快門致動等多項先進的自動化功能。這允許精確和精確地控制曝光時間,並允許在整個曝光過程中精確跟蹤產品。這種自動化功能對於降低與光刻生產有關的間接費用至關重要。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7光抗蝕劑單元也提供了先進的保護功能。其中包括隔振機、靜態/動態保護、空氣過濾和故障隔離。這些功能允許在曝光過程中更好地保護工具的組件,並確保資產保持良好的運行狀態。總體而言，TEL Clean Track Mark 7光刻膠模型是生產高精度可靠光掩模的寶貴技術。它提供高級功能和自動化功能,能夠高效生產復雜電路。該設備非常適合用於半導體和多氯聯苯工業。
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