二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293641936 待售
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ID: 293641936
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7是為制造先進微電子器件而設計的光刻設備。該系統具有高精度的光束聚焦和對準單元室，允許工人在原子級進行逐項作業處理。TEL Clean Track Mark 7包括兩個階段：對齊室和基板加工階段。對準室的特點是具有兩個透鏡的光束偏轉機，這些透鏡用於對準光束，從而將光對準正在處理的基板上的精確點。這樣可以確保每個作業都有非常準確和可重復的結果。基板加工階段包括一個裝有各種氣體的真空室，以清潔和清除可能汙染基板的危險顆粒和空氣汙染物。TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 7在控制軟件的幫助下能夠達到1 µm的分辨率。這是可調的，可以調整以滿足不同的流程。該工具還具有一系列高級功能,可用於調整梁的焦點、大小和形狀。這使用戶能夠在非常短的時間內以非常高的精度優化流程。此外，Clean Track Mark 7資產采用了一種正在申請專利的創新輻照方法，可以提高信號強度和信號同質性。這通過減少表面缺陷提高了設備的分辨率，並確保了一致的高質量晶片蝕刻。該模型還采用了一系列診斷工具，如晶片蝕刻試驗、光致抗蝕劑清洗試驗、電子束模擬、自動配方控制等等。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一款先進的光刻設備，旨在提供最高品質的晶圓蝕刻和光掩模處理。憑借其高分辨率、控制軟件和各種高級功能，工人能夠可靠地、準確地完成要求高精度的工作。
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