二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9158020 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是最新一代的光刻膠系統，旨在滿足最新的半導體製造及加工需求。該設備具有先進的功能,可提供卓越的功能和性能。TEL Clean Track Mark 7使用了直接驅動無掩模曝光（DME）技術,該技術允許在光刻膠層等基板上進行更好的圖樣繪制。利用這項技術,光學系統根據計算機輔助設計（CAD）數據而不是使用光掩碼來顯示基板。這種方法不需要額外的清潔空間來制作口罩，節省時間和金錢。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7還具有Active Pattern Precision （APP）調諧功能。此功能允許在高分辨率細節（如LWR（線寬粗糙度）最重要的光刻石層上進行更好的陣列控制。APP有助於將LWR保持在5nm以內,使其非常適合必須達到精度級別的流程。除了DME和APP之外,Clean Track Mark 7還包括一個基板移動單元。這允許基板在X、Y和Z方向上移動,並且傾斜方向可達到30度偏移。這臺機器允許多種基材尺寸和形狀，所有的調整和對準都可以快速準確地完成，節省時間和金錢。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7還擁有一系列最先進的清潔功能。這個工具使用了專利的Aerospray清潔操作，這有助於減少粒子散射的同時清潔光刻膠。它還提供了一種利用類似DI的水的專有濕清洗工藝，這有助於最大限度地減少因強化學物質引起的表面腐蝕。TEL Clean Track Mark 7還配備了預對齊資產,通過從CAD源數據測量每個模具的長度、寬度和面積,有助於最大程度地提高對齊精度。該模型還有助於減少模具放置過程中所需的體力勞動，減少手動檢查和優化的需要。綜上所述，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7設備提供了半導體行業在光刻膠系統中的最高性能和最先進的特性。其直接驅動無掩模曝光技術、主動模式精密調整功能、基板移動系統以及一系列清潔功能,通過快速的設置和操作提供了卓越的精度。