二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9165479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一種光刻設備技術，旨在提高先進半導體器件的生產和性能。該系統利用一系列不同的光源，在其目標基質的區域內產生均勻一致的光照劑量。光致抗蝕劑系統在半導體工業中變得越來越重要，因為它們對於準確地暴露基板以達到所需的效果是必要的。TEL Clean Track Mark 7的設計特別旨在降低操作的成本和復雜性,特別是預定義的強度和均勻劑量的透過晶圓的光。TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7單元由多個集成元件組成，包括光學元件、控制器和抗蝕劑過程控制單元。光學元件利用優化的照明器以精確和均勻的方式將光傳遞到基板上。這保證了光刻過程的準確性和可重復性。控制器負責調節發出的光的強度並測量劑量，從而向光學元件提供反饋和控制，並抵抗過程控制單元。該抗蝕劑工藝控制單元用於控制化學-電鍍和幹滲透工藝，在優化蝕刻工藝參數方面起著至關重要的作用。為了解決與光刻膠工藝相關的關鍵問題，CleanTrackMark 7機器的設計具有許多顯著的特點，如改進的熱輪廓、精確的定時和基板上均勻的光強度。為便於實現這一點，該工具集成了高效光子探測器和均勻光源。另外，對劑量和暴露時間的精確控制由控制器進行。這些特性保證了高效、準確的操作，從而最大限度地提高了生產效率和光刻產量。再者，TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7資產配備了10英寸的擴散板，使得更精細的圖樣可以蝕刻在基板上，從而提供了改進的工藝窗口優化。此外,還可以使用特殊傳感器實時測量抗蝕劑厚度,從而進一步實現精確的抗蝕劑處理控制。總體而言，TEL Clean Track Mark 7模型是半導體加工中接觸印刷和光刻的最佳選擇。它擁有先進的功能，如微調光學元件，精確的控制器和改進的抵抗處理單元。這些組分結合在一起，在基板上提供精確和均勻的光劑量，有效的熱分布以及對劑量和曝光時間的精確控制。因此，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7設備實現了高效、經濟高效的半導體生產。