二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9196447 待售
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單擊可縮放
ID: 9196447
晶圓大小: 6"
優質的: 1992
Coater / Developers system, 6"
System: Left to right for 8" wafer
Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cassette)
Configuration:
Main body 1
IF
Chemical cabinet 1 & 2
THC
PC Rack
Main controller: NEC FC-9801X
C/S Robot type: Vacuum arm / Ceramic pincette
Main robot type: 3-Pincette arm
Indexer: Laser diode mapping sensor
SCR: JET Nozzle / Rinse nozzle
Coat:
(4) Resist nozzles
Bellows pump 1 gallon resist bottle
Thinner local supply (Canister)
EBR Nozzle
Back rinse nozzle
Local drain (1ST SUS 10L Tank / Drain pump)
DEV:
Nozzle type:
E2 Nozzle
Rinse nozzle
Back rinse nozzle
local supply
Facility drain
WEE: UL-200T-L1 UV Light source
AD: Local supply
Currently warehoused
1992 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 7（CTM-7）是一種用於半導體工業的制造和建造過程中的光致抗蝕劑設備。它被用於多種應用，如光刻、幹濕蝕刻和其他光子過程。該CTM-7是為大型復雜晶片設計的，具有高達0.25微米的高度精確的特征尺寸。它具有較高的吞吐率，與其他光刻膠系統相比效率高。該CTM-7采用間接和直接激光投影光學器件組合，將光刻膠層精確定位在晶片基板上。光致抗蝕劑通過靜電力固定在EPC滾筒上，使其能夠精確定位，中心精度為+/-1微米。根據作業的預定義參數，由高精度分發器分配光刻膠層。然後,激光光束在光致抗蝕劑層暴露下面的基板.然後根據作業參數將暴露的基板蝕刻到定義的深度。該CTM-7還有一個先進的真空處理系統，它允許晶片的最佳對準和處理。蝕刻完成後，晶片在電介質浴中清洗沖洗，然後自動裝入自旋幹燥機進行幹燥。旋轉式烘幹機改善了循環時間，提高了晶片的清潔度。該CTM-7還配備了一個自動晶片檢測單元，用戶可以快速準確地檢測晶片表面的任何缺陷。此外，它還配備了先進的工藝監測機，利用圖像處理實時監控工藝步驟，並自動相應調整參數。這樣可以確保光刻、蝕刻和清潔過程都以最佳質量水平進行。總之,TEL Clean Track Mark 7是一種可靠、高效的光致抗蝕劑工具,可提供高性能、高精度以及更好的循環時間。其先進的特點，如真空處理資產和過程監控模型，確保過程完成到質量和精度的最高標準。
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