二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9395128 待售
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單擊可縮放
ID: 9395128
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
(2) Coater system, 8"
Wafer flow: Right to left
Single block system
TEL Clean Track Mark 7 Controller
Stage/Indexer: Non SMIF/Open Uni-Cassette CS/Cassette Station
CSA/Cassette station arm
Normal photo resist coat 2-1
(2) Normal photo resist dispense nozzles per coat unit
(2) Normal photo resist dispense nozzles
(2) Bellows resist pumps per COT Unit
Single back rinse nozzle
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle quantity: (2) Spaces
Photo resist auto exchange
Cup type: PP for Upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder only
Normal Photo Resist Coat 2-2
(2) Normal photo resist dispense nozzles per coat unit
(2) Normal photo resist dispense nozzles
(2) Bellows resist pumps per COT Unit
Single back rinse nozzle
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle quantity: (2) Spaces
Auto dummy dispense system
Cup type: PP for upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder only
PRA/Process Block Robotics Arm
(2) LHP/Low temperature oven unit
External chemical supply system
Solvent supply system
Solvent chemical type
Chemical Center Supply System(CCSS)
With (2) 3L Teflon buffer tank
Tank type: 2 Buffer tank (3L/Tank, Teflon)
(2) Cover coat units
TEL OEM SMC Multi controller: Rear main body
Power transformer AC Cabinet : 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7是一款光刻設備，能夠實現集成電路的高通量生產。該系統設計完美的光刻塗層和抵抗修剪過程具有顯著的精確度，使清潔，對稱，和明確定義的電路模式。TEL Clean Track Mark 7的核心是其尖端的自動化塗層站。該站的工作原理是通過原子層沈積（ALD）將光致抗蝕劑精確地應用於晶圓表面。ALD用於確保塗層覆蓋範圍均勻,甚至占晶片上難以到達的任何位置。其低壓噴氣噴霧也使溶劑效率最大化。這對於較小的設備來說尤其重要,因為在較小的設備中,抗蝕劑材料的一致覆蓋非常重要。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7還具有高精度的抵抗修剪工藝。它使用先進的近場光束光學單元來修剪不需要的抗蝕劑殘留物。這臺機器具有獨特的光束角度設置，使它能夠精確地勾勒出所需圖案的邊緣。它還具有高分辨率,0.94微米激光,能夠清潔,精確修剪.該工具還提供自動設置,用於監視修剪級別並確保它們得到維護。此外，CleanTrackMark 7的高精度基板對準器在晶片上提供了出色的抗蝕性材料均勻性。這一資產也在非常低的溫度下運作，以最小的溫度波動確保均勻覆蓋。利用光學識別和直接位移/對準技術相結合，基板對準器可以進行精確的氣隙測量和抵抗模式形成。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7除了具有光刻性能外,還具有其他幾種工藝,有助於晶圓的生產過程。其中之一就是升空工藝，用於在電阻塗層工藝完成後清除未加工的區域。該模型是為高精度而設計的，它利用高效的排水墊片設備防止多余的溶劑溢出和損壞晶片。利用TEL Clean Track Mark 7的提升過程,可以實現準確、幹凈的邊緣,從而確保最大生產效率和產量。總體而言，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一種高能力的光刻膠系統。其精心設計的塗層站、自動修剪工藝和精確的基板對齊器使其成為為各種應用生產幹凈、對稱、定義明確的電路模式的理想單元。此外,其集成的提升過程允許快速、準確地清除未加工區域,以最大限度地提高產量並最大限度地提高生產效率。
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