二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293585704 待售
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ID: 293585704
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Coater / (2) Developer system, 8"
Wafer type: SMIF
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一種精密的光致抗蝕劑設備,設計用於精確對齊和陣列晶片。它提供了一個平臺,旨在充分利用TEL Limited(TOKYO ELECTRON)在光刻、抗加工和晶圓處理方面經驗證的技術。TEL Clean Track Mark 8是光刻應用的理想選擇。它能夠精確定位口罩,出色的對準精度和有效的模式轉移到晶圓。該系統包括一個用於CCD註冊的自袋小型範圍;超緊湊的對齊階段;全場曝光單位;晶圓負載站;以及集成的晶圓處理。這些組件創建了一個光刻解決方案,該解決方案旨在提高分辨率、可重復性和最小失真。微型瞄準鏡具有自動、無損的口罩和晶片配準功能,減少了曝光時間,提高了對準精度。OptiScope的高級設計僅使用一次掃描即可提高對齊和配準的吞吐量和準確性,減少曝光時間,並在需要時提高對齊準確性。OptiScope還包括對齊和掩碼註冊信息的實時顯示,使操作人員能夠快速輕松地調整產品。超小型對齊階段利用先進的機動化和機械設計技術,確保精細的精度和均勻的對齊。它提供了穩定性、精確度和速度,並配備了嵌入式、單件光機處理照明機器。所得到的性能保證了曝光後良好的模式精度。全場曝光工具提供了出色的模式傳輸精度和吞吐量。它采用先進的激光制圖方法和電子快門,提供了5um的改進分辨率和高達每小時5個晶圓的容量。而晶圓裝載站則可以方便裝卸,減少曝光時間,提高吞吐量。集成晶圓處理資產旨在提供高性能生產環境所需的熱交換和集成訪問。晶片負載站能夠同時連接多達四個晶片引入系統,從而實現有效的晶片加載和卸載。綜上所述,TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8光刻膠模型為高效生產提供了全面可靠的平臺。它提供先進的對齊和曝光管理,確保晶圓的精確模式轉移。這使得它成為生產高精度光敏應用的理想解決方案。
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