二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9128615 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8是一款為納米尺度的半導體加工而設計的光阻設備。該系統利用先進的幹蝕刻和光刻共處理技術，提供了表面平滑度高、產量高、粒數少的部件。該單元能夠以最小的清潔步驟進行圖樣和蝕刻,允許快速、均勻和可靠的圖樣,並最大程度地減少介電損壞,同時以高精度控制蝕刻參數。TEL Clean Track Mark 8可以容納幾種光刻膠配方，包括雙層和單層圖案。它可以使用VUV/FUV光掩模對準處理正負光抗蝕劑。這臺機器是為無與倫比的性能和均勻性而設計的，在各種基材和薄膜上提供高產通路。該工具基於Spin Etch技術，使用旋轉電極以跟蹤方式蝕刻晶片。旋轉電極在很寬的區域內產生均勻的蝕刻速率，並且能夠在很寬的功率範圍內產生和控制均勻的低壓等離子體。這種技術增加了均勻性，減少了晶圓熱處理造成的電荷損傷。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8支持高生產率和高效處理,並提高關鍵結構的蝕刻速率。它利用串聯蝕刻通過模塊來減少蝕刻時間,實現更精確的尺寸和更快的處理時間。此外，資產提供精確的溫度控制和精確的蝕刻時間控制。它還具有可變角度載荷級，以進一步減少載荷和卸載基板所涉及的時間。該系統提供了更好的覆蓋精度和更高的光致抗蝕劑去除效率。這是通過應用和去除不同角度的光刻膠來實現的，允許生成不同大小和形狀的隔離圖案。該模型具有原位洗滌能力，可以幫助去除蝕刻過程中粘附在表面的殘留顆粒和顆粒。綜上所述，Clean Track Mark 8是一款設計用於半導體加工的光敏設備。該系統能夠以最小的清潔步驟對納米級部件進行制圖和蝕刻，並利用各種先進技術，包括自旋蝕刻、直列蝕刻模塊、精確的溫度控制和精確的時間控制，以提高產量和降低顆粒數量。該裝置還提高了覆蓋精度，提高了光刻膠去除效率。