二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250393 待售
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ID: 9250393
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Interface
ASML Stepper
Wafer flow: Right to left
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一種光刻設備,用於制造半導體器件的光刻特性,用於制造集成電路。該系統使用兩個光源來繪制光刻膠圖樣,一個聚焦光源和一個掃描光源。聚焦光源用於創建圖樣的一層,而掃描光源用於創建光刻膠圖樣的連續層。聚焦光源由激光束組成,激光束通過一系列透鏡聚焦到光致抗蝕層上。這種聚焦光束為光致抗蝕劑提供動力,使其交叉連接並形成圖樣。然後將圖樣轉移到光致抗蝕劑層,可以使用許多圖樣制作技術來獲得不同的結果。掃描激光源用於繪制光刻膠的圖樣。激光束聚焦在光致抗蝕劑上,並以光柵模式在光致抗蝕劑層上發射。然後對每一層重復這種點火模式,產生一種復雜程度不同的模式。激光束也被用來蝕刻掉多余的光致抗蝕劑,在基板上留下所需的圖案。TEL Clean Track Mark 8單元能夠產生尺寸小於0.13微米的圖案,使其能夠產生任何其他光刻機無法達到的精細圖案。該工具也不像其他光阻系統那樣容易發生失火和錯誤,使其成為創建半導體器件的可靠選擇。此外,資產的處理時間比其他系統短,這使其成為制造商更有效的選擇。TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一種高度可靠和高效的光刻膠模型,能夠產生尺寸低至0.13微米的圖案。該設備用於制造半導體器件的光刻特征,用於制造集成電路。該系統使用兩個光源-一個聚焦光源和一個掃描光源-來繪制光刻膠圖樣,從而實現高精度和高精度。與其他系統相比,該單元不太容易發生失火和錯誤,使其成為制造商的理想解決方案。
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