二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250394 待售
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ID: 9250394
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Interface
ASML Stepper
Wafer flow: Right to left
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 Photoresist Equipment是一款高性能、經濟實惠的半導體工藝工具。它用於在晶圓、印刷電路板和其他材料等基材上應用光刻膠的圖樣,光刻膠是一種在光刻過程中充當蝕刻面膜的液體。TEL Clean Track Mark 8通過將光刻膠圖案暴露在基板上,可以形成微結構,如IC、晶體管、電容器和光電器件。TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8旨在提供高精度的布局,基板對準和曝光。它具有可擴展的系統體系結構,包括相片曝光單元、抵抗塗層單元、底面等離子體清潔器、抵抗剝離器和UPS曝光板,它們都連接到PC。該裝置配有集成的模式發電機和曝光源以及用於快速設備生產的自動板載/卸載能力。該機能夠達到1.0 μ米以上的線寬精度和0.05 μ米以上的測量精度。它配備了先進的精密光光對準工具,可以自動檢測、對準和設置軌道平臺上的基板,公差為0.05 μ m。還使用了8英寸的高電流電子束源,允許創建非常精細和密集的曝光模式。此外,高端的Clean Track支持包還提供了一套模式校正和設計優化工具,可確保晶圓和基板的最佳性能。Clean Track Mark 8非常適合高混合/低容量操作,在保持高性能水平的同時提供靈活性和成本節約。它還可以減少工藝時間,優化工藝重復性,並以更高的精度生產先進的光刻。資產完全可編程,與各種抗蝕劑類型兼容,成為大規模生產微電子器件的絕佳選擇。
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