二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250397 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8光抗蝕劑設備旨在實現更小、更復雜的集成電路設計。它允許設計者在半導體基板上產生詳細的微型圖像或圖案。TEL Clean Track Mark 8具有FLEXI-DEVELATION (TM)技術,這是TEL開發的專有開發過程,用於確保最佳輪廓定義。利用FLEXI-DEVELATION (TM)技術,TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8通過光刻技術將圖像暴露在半導體基板上的光刻層上。光刻是利用紫外線在光刻層上創建圖片的莫爾圖樣的過程。光線隨後通過具有圖樣的光掩模,以暴露光刻膠層。一旦暴露,根據預定義的desghn參數開發抗蝕層。產生的圖像具有極高的分辨率,並允許物體被精確地蝕刻到基板上。它還能提供卓越的工藝控制和均勻的保形濕法開發.這樣就可以跨各種工藝要求進行高度可靠的生產。Clean Track Mark 8還具有廣泛的過程控制功能。它具有先進的自動運行時管理器來控制溫度、抵抗曝光率和開發後的清潔。該系統還有一個內置的計量包,可以連續監控抗蝕劑特性,以確保準確性。此外,該單元還具有快速、準確地修改配方以適應流程更改的性能。TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8可用於半導體過程中的多種操作,如內存芯片、邏輯芯片和CMOS圖像傳感器。它非常適合於高功耗、超薄的應用,可用於各種工藝技術節點。它具有支持多種模式應用的能力,並具有變速控制機制,根據個人需求定制流程。總體而言,TEL Clean Track Mark 8光刻機為許多行業的半導體加工提供了先進的設計解決方案。它提供可靠、準確的圖像、過程控制能力和配方靈活性,以確保設備的最佳性能。
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