二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672262 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark II Photoresist Equipment是精密基板清潔室工序的一流工具。該系統可實現快速、高質量的光刻膠圖樣制作過程,且人員互動最少。它有一個半自動跟蹤單元，用於多步膜加工，允許高效的基板加工。機器采用了幾個處理室，每個室都有自己獨立的操作。工藝序列包括脫膠、基材清洗、粘附、軟烘烤、曝光、曝光後烘烤和曝光後加工。脫熔室設計用於去除基板上的表面汙染物，並為粘附做好準備。這樣做是通過對表面進行高能真空，然後用氙等離子體濺射基板。底物清潔室采用專利親水溶劑清潔法，從底物中去除有機殘留物和疏水膜。粘合室是一種化學氣相沈積過程，其中矽有機矽烷的單層鍵合到晶圓表面。這有助於確保後續層與基板正確結合。軟烘烤室通過使晶片在高溫下蒸發殘留溶劑並增強光刻膠的表面附著力，進一步為晶片的進一步加工做準備。在曝光室中，所需的光掩模與晶片對齊，紫外線透過掩模發光，將圖案接觸-暴露在晶片上。然後在曝光後的烘烤室中進行曝光後烘烤，使光致抗蝕劑變硬和發展。在曝光後處理室內，用一種特殊的化學加工劑處理暴露的晶片，揭示基板上的光刻圖樣。TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool是為精確和可重復的光刻結果而設計的。是高質量潔凈室作業的可靠精準工具。對於任何研究或生產環境而言,它都是一種高效高效的資產。