二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672270 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark II Photoresist Equipment是一種綜合性光刻系統，設計用於半導體晶圓加工作業。該單元具有許多高性能組件,可用於精確晶圓陣列應用。機器的核心是它多用途和能幹的照明工具，它允許高度精確地曝光晶圓上的光刻膠層。Xenon燈被用作光源，復雜的投影資產允許晶圓上的精細特征的完全分辨率，以及晶圓的可重復照明。投影筒和繼電器鏡頭等其他光學元件有助於提供實用半導體加工所需的高精度和重復性。Mark II Photoresist模型還具有一個多軸級組件，該組件針對設備各部件之間晶片的精確和可重復移動進行了優化。該級由驅動三軸控制的高精度直流伺服電動機驅動。舞臺高度剛性的構造和低調的設計允許低重心，從而提供優越的運動和運動控制，同時保持系統的占地面積小。為了確保所有晶片都能以統一的方式創建精確的圖樣，Mark II光阻裝置還包括一臺精密的校準機。此校準工具可自動對準資產的光學器件,並確保光刻膠的曝光在晶片上均勻且可重復。Mark II Photoresist模型設計為易於操作和維護，使其成為大容量晶圓處理操作的理想解決方案。設備包括若幹診斷工具和內置保護措施，以盡量減少停機時間並確保系統正常運行。此外,該設備還提供了軟件更新,使用戶可以隨時更新其機器以進行最新改進。總體而言，TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool是一種針對半導體晶圓處理應用的全面且易於使用的解決方案。其精密的照明資產、多軸級裝配和先進的校準模型使精度和可重復性達到最高水平,而其用戶友好的設計則確保設備易於操作和維護。