二手 TEL / TOKYO ELECTRON CPHP WCPL/TRS #9102211 待售

ID: 9102211
Plate Process Station for Clean Track Lithius (3) CPHP General Chamber (2) Chilling Hot Plate Process Station CPL (1) Water Controlled Chill Plate Process Station / Transition Stage WCPL/TRS.
TEL CPHP WCPL/TRS是一種由TOKYO ELECTRON設計的光阻設備。該系統能夠為用戶提供在玻璃、金屬、陶瓷和塑料等多種材料上創建高質量圖案的能力。該單元使用CPHP(反向充電控制部分硬化)和TRS(全反射射擊)技術來設置印刷電路板(PCB)和其他電子元件中使用的高分辨率模式。TEL/TOKYO ELECTRON CPHP WCPL/TRS光致抗蝕劑機實現的CPHP技術允許暴露於高達20KW/cm的極高強度光中²這通常比典型的光致抗蝕劑曝光系統亮5至10倍。此外,無需掩碼即可完成完整的設置,從而使CPHP在原型制作方面具有靈活性和經濟效益。TRS技術提供了一層保護和穩定性,同時還為用戶提供了極其精確的模式。TRS功能允許有效的光反射,這對於確保精度和圖樣精度非常有用。它可以有效地收縮和擴展材料上的圖樣,同時確保質量和穩定性。TEL CPHP WCPL/TRS光刻膠工具的應用因其高精度的模式、穩定性和高品質的結果而超越了標準原型設計。這些特性使其成為生產高精度塑料鏡頭、3D光柵和各種印刷電路板的理想選擇。CPHP WCPL/TRS光刻膠資產使用方便,加上高精度的圖形用戶界面,甚至新手用戶也能快速學習軟件。它為用戶提供各種手動和自動模式的控制功能。該模型還提供了整個陣列制作過程的實時反饋,從而允許用戶調整設置並驗證結果以獲得最佳結果。綜上所述,TOKYO ELECTRON CPHP WCPL/TRS光電抗蝕劑設備對於那些需要高質量模式的人來說,是一種具有成本效益的方法的強大資產。它利用CPHP和TRS技術生成高分辨率圖像,並為用戶提供各種控制功能和實時反饋。由於系統功能強大且易於使用,因此非常適合創建高精度塑料透鏡、3D光柵和打印電路板(PCB)。
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