二手 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380665 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600光致抗蝕劑設備是一種綜合性的工藝系統,主要用於在300 mm至200 mm的晶片上對先進光致抗蝕劑材料進行光刻制圖。它支持多層光刻膠的處理，能夠以30nm可重復性的高精度處理。它包含同時的高度/焦點/劑量計量法，為高精度圖樣提供精確的聚焦和劑量控制，還具有直接的光學圖樣成像單元，用於精確的圖樣放置。TEL CS-600機使用高分辨率圖像的光學熱投影（OTP）來實現精確的光刻圖樣制作過程。OTP利用先進的投影光學和成像技術,利用瞳孔成像（PI）和特征亮度補償（FBC）將高強度、均勻的掩模圖像帶入抵抗膜。這樣就可以在多層過程中實現多種陣列化技術,例如偏心曝光、底部防反射層（BARL）處理和衰減陣列化。PI技術允許對圖樣元素進行更好的分辨率,FBC可以補償由於圖樣元素的大小而導致的圖樣元素亮度差異。TOKYO ELECTRON CS-600提供高頻（最高300kHz）光聲掃描，提供高精度、高速度和高分辨率模式。它們還能夠對晶片平面進行亞微米對準,以進行模式傳輸和各種對準,並支持高級成像和抵抗掩蔽功能。CS-600的溫度控制特性提供了一個均勻的抗蝕膜厚度一致的圖案結果。它能夠處理各種過程，如頂面烘烤、塗層、烘烤和曝光。TEL/TOKYO ELECTRON CS-600的極低溫度設置也有助於最大限度地減少過程中抵抗損傷的可能性。除了通用抗蝕劑加工工藝外，TEL CS-600還能夠加工多種先進的光刻材料。它設計用於處理單層和多層光刻膠應用。TOKYO ELECTRON CS-600的快速光學成像工具可以讓使用者以0.2um的精確度對光抗蝕劑特徵成像。光敏資產還配備了先進的分析控制和檢測流程。這些包括設計規則檢查、地形測量、曝光劑量控制、分辨率測量、缺陷檢查、汙染檢查、晶圓/像素均勻性測量和粒子計量。CS-600為光刻制圖提供了卓越的性能，是處理復雜光刻工藝的高度可靠的模型。這是極其昂貴的，使得許多實驗室很難獲得，但總體TEL/TOKYO ELECTRON CS-600提供了當今最高水平的光敏性能。