二手 TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269610 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CS450光致抗蝕劑工藝是一種先進而堅固的集成電路制造系統。其核心是三級沈積-旋轉塗層、浸入和曝光後烘烤（PEB）-用於在半導體基板上沈積光聚合物薄膜。然後用這種薄膜將電路模式傳遞到所述基板上。TEL CS450是一種經濟的自旋塗層，在提供均勻、精確可控的自旋塗層厚度方面表現出色，能夠可靠地保存圖樣布局。它還旨在確保為每個材料類型和作業設置最佳參數。這是通過使用預定義的配方文件來完成的,這些文件可以針對任何特定變量（如噴嘴大小、舞臺溫度和旋轉速度）進行定制。TOKYO ELECTRON CS 450背後的核心技術是其浸入過程。光刻膠膜使用受控真空精確地沈積在基板上，這樣可以實現全表面覆蓋和質量一致。TEL CS 450利用了一種特殊的化學溶劑，旨在快速蒸發，在底物表面留下均勻的光致抗蝕劑層。如果需要,可以省略浸入式臺階,但其使用將確保光刻膠圖案在不留下任何缺陷或損壞的情況下被轉移到基板上。TOKYO ELECTRON CS450光致抗蝕劑工藝的最後階段是曝光後烘烤（PEB）。這是光致抗蝕劑加工的一個關鍵步驟，因為它控制著膠片曝光後的物理、化學和形態特性。對該過程中設置的PEB溫度和相對濕度系數進行了優化，以確保光刻膠薄膜能夠正確、充分地曝光，並在延長的工作時間內保持穩定可靠。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON CS 450光致抗蝕劑工藝是一種非常可靠和經濟的系統，被證明能夠產生質量一致、產量高的電路。其集成的三級沈積工藝確保了自旋塗層厚度的完全可控，為模式布局提供了可靠的保存。這種精度和魯棒性的結合使得CS 450成為任何半導體制造應用的理想選擇。