二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293671305 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是半導體工業中用於光刻應用的光刻設備。它是由光固化化合物和有機溶劑等可光刻介質的混合物制成的抗蝕膜。它最常用於半導體模式，包括集成電路和MEMS。該過程的第一步是在基材上塗上抗蝕膜。這種薄膜是用一種旋轉塗層制備的，該塗層以高速旋轉，使抗蝕劑均勻地分布在整個基板上。然後使用紫外線或其他電磁輻射對抗蝕劑進行成像，這取決於所使用的抗蝕劑類型。圖像曝光後，通過用溶劑去除暴露的抗蝕劑來發展。這揭示了基板上工作層的模式。抗蝕劑系統對紫外線極為敏感，其化學成分確保其在惡劣條件下保持穩定。其優越的附著力消除了基板損壞的可能性，並最大限度地減少了汙染。該單元還具有準確檢測缺陷的能力和處理大模式的能力。這使得它非常適合於高度密集和面向精確的陣列制作過程。機器出色的穩定性確保線寬和形狀保持一致,而不會隨著時間的推移而收縮或擴展。由於抗蝕膜是紫外線敏感的，因此也可以通過在膜上放置樣品來檢驗樣品。這使得它能夠檢測小至0.1µm的缺陷或以0.01µm的精度測量特征尺寸。它還可以檢測不同層的特征高度,精度僅為0.001nm。抗蝕劑工具還能夠處理高長寬比結構,其厚度可低至1nm。這使得它成為蝕刻結構的理想選擇，尤其是在現代半導體光刻中。資產的靈敏度和穩定性相結合，使得它在從晶圓光刻到新興的MEMS結構和先進的封裝結構的廣泛應用中得到普遍應用。該模型也因其高性能和可重復性而被用於計量。TEL Lithius是一種獨特的光阻設備，用於半導體和MEMS項目。它能承受惡劣的環境條件、出色的附著力和精確度，是光刻工藝和計量應用的理想選擇。隨著先進的MEMS陣列和封裝的出現，抗蝕劑系統已成為為這些新興技術創造必要的詳細模式的必要工具。