二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293793614 待售
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ID: 293793614
晶圓大小: 8"
(5) Coater / (5) Developer system, 8"
Coater cabinet
Developer cabinet
Dual block
ASML AT 850D Interface type
SHINWA THC Cup
(4) Loadports with FOUP Capable
Carrier type: RFID
Barc:
(2) Cups
(3) Nozzles per cup
Pump type: RGEN2-4CC Pump
Filter: 0.02 µm
Solvent filter: 0.05 µm
Resist:
(3) Cups
(7) Nozzles per cup
Pump type: RGEN2-4CC Pump
AMC Valve
Filter: 0.02 µm
Solvent filter: 0.05 µm
(5) Developer cups
NLD Per cup for developer nozzle
(2) Nozzles per cup for DI Water rinse
Nozzle per cup for FIRM Supply
ENTEGRIS AHUZ0LEM1 Developer
ENTEGRIS ABUZOLEM1 DI Wafer
(3) Adhesion
(11) CLHP
(6) CPHP
(8) HCP
(5) CWH
WCPL
WEE
Power supply: 208 VAC, 3 Phase.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是為精密光刻工藝而設計的全自動光刻設備。該系統提供了一個廣泛的功能，以有效地抵抗處理和優越的圖樣處理結果。針對高通量生產進行了優化，利用了光刻技術的最新進展。該裝置允許一次在大小基板上處理多達八種類型的抗蝕劑，采用自動厚度控制機制，確保工藝的均勻性和高精度。機器由一個光源、一個光學級和一個平臺組成，用於定位與掩模級對齊的基板。光學級包括精確對準工具和用於移動基板的步進器。光源負責提供所需波長和強度水平的光，能夠進行標準和先進的光刻工藝。資產具有一系列高級功能,包括一個特殊的多層、防阻處理模塊和一個自動處理大面積基板的定制設計輸送機。自動晶圓定位模型集成了獨特的光學掃描儀和智能清洗設備。它還配備了電動面罩舞臺、集成真空系統和自動調諧功能。該裝置提供出色的防汙保護，並裝有特殊的保護性氣體，以確保長期維護。它采用簡單的用戶界面和觸摸屏顯示屏設計，能夠快速準確地調整參數。該機還具有低振動設計，部分消除了減振的需要。照片對準、對焦和鏡頭對焦功能已集成到工具中,以實現卓越的圖樣化結果。資產快速高效,為運營商提供無與倫比的性能和靈活性。它與廣泛的光致抗蝕劑兼容，旨在滿足各種行業的需求。是優化光刻工藝、提高吞吐量、保持卓越精度的理想途徑。
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