二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9102159 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一種用於制造半導體器件的光阻設備，如計算機芯片，以及其他電子元件。該系統將光敏材料或光致抗蝕劑應用於矽片。當暴露在光線下，矽片的某些部分會被蝕刻掉，這取決於光刻膠的曝光。然後可以將組件的物理形狀蝕刻到剩余區域中,從而使生成的產品具有所需的微觀模式。TEL Lithius光致抗蝕劑單元是一種基於真空的功能,其開發目的是在全矽晶片或其他基材上刻畫光致抗蝕劑材料均勻覆蓋的臨界層。機器同時控制多個進程的移動，以提供最佳的統一性和生產率。它遵循光刻工藝一步一步地確保最終工藝性能所需的特殊特性的綜合編程。該工具具有處理200 mm矽晶片的能力，還具有直徑更大的300 mm晶片的功能，以及與其他基板的功能，如玻璃。從正面到負面的各種抗藥性都可用於資產。不同的抗蝕劑必須用於每個技術人員的特定用途和一些基材，如石英、石英石英、玻璃或矽，這取決於應用。這使得從半導體應用到顯示和太陽能電池應用的眾多用途成為可能。TOKYO ELECTRON Lithius photoresist model works by function in a series of steps, which include spin rinse, pre-coat, post-coat, pre-bake, wentle bake, and soft bake.對這些步驟中的每一個步驟進行監控,以確保滿足所需的結果,並且附著力和工藝緯度都在規範範圍內。該設備還能夠使用具有正負型抗蝕劑的多層抗蝕劑策略，從而設計出極高質量的圖案。整個系統是由軟件驅動的，允許易於使用和編程。它支持多晶片功能,實現了可替代手動晶片處理的全自動解決方案。此外，該機組還配備了多種既安全又可靠的工藝特性，如溫度、曝光時間、自旋速度和壓力，所有這些都必須精確定時才能獲得所需的結果。總體而言，鋰光刻機為制造高度復雜和精確的半導體元件提供了可靠和高效的方法。它提供了很大程度的控制和準確性，其自動化過程確保了產品的一致質量。