二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111797 待售

ID: 9111797
CPL Chilling Hot Plate Process Stations BASE ASSY FRONT, P/N: 5087-402532-13 BASE ASSY MID, P/N: 5087-401685-19 BASE ASSY BACK, P/N: 5087-401686-17 BASE(CPL)ASSY SUPPORT, P/N: 5085-408084-11 GUIDE(10) ASSY, P/N: 5085-404679-12 COVER(CPL) ASSY BACK, P/N: 5085-408086-13 BRACKET(DSW)ASSY, P/N: 5087-402531-13.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一款最先進的光刻設備。光敏材料是一種用於制造電子電路板和半導體器件的感光材料。光刻膠系統由4個主要組成部分組成;脈沖準分子激光器、檢測器模塊、偏振器光學和晶片級。脈沖準分子激光器是一種特殊的單元,利用紫外線將所需的圖案暴露在光刻塗層晶片上。激光會誘導光刻膠發生化學變化,從而決定光刻膠對後續加工的反應。探測器模塊由一個處理器和兩個照片探測器組成。處理器處理並解釋從主機發送的矢量數據,以確定矢量方向和暴露量。兩個光電傳感器測量激光穿過晶圓表面的線性運動,確保晶圓的整個表面均勻暴露。偏振器光學器件是一種用於控制激光光束方向的器件。光學元件包含幾個透鏡和濾鏡,這些透鏡和濾鏡可以調整以將光束聚焦在所需的圖樣上。這樣可以確保圖樣以正確的強度準確曝光。晶片級是一種運動控制機器,用於精確定位激光下方的晶片。它配備了伺服電機和編碼器來控制晶圓的XYZ定位。該級具有針對不同方向旋轉晶片的能力,其方向可以快速改變,使曝光時間最小化。TEL光刻工具是現有最先進的系統之一,用於制造先進的集成電路。該資產為創建具有卓越邊緣分辨率的復雜陣列提供了卓越的速度和準確性。它具有極好的可靠性,非常適合大批量生產。
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