二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9112797 待售
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ID: 9112797
WCPL/TRS Water Controlled Chill Plate Process Stations
Part Numbers:
5087-401690-18 BASE ASSY, MID
5087-401686-17 BASE ASSY, BACK
5087-401687-13 BASE (3P-CPL) ASSY
5085-408087-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT
5085-403233-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT
5085-404679-12 GUIDE (10) ASSY
5085-413028-11 GUIDE (11) ASSY
5085-409705-12 COVER (WCPL) SET
5085-409703-12 COVER (TRS) ASSY
5087-401691-11 PLATE (TRS) ASSY
5087-403214-11 PLATE (TRS) ASSY
5087-403592-14 CWH (HP) ASSY
5087-403596-11 PIN BASE (CWH) ASSY
5087-403633-13 CWH (HP200C) ASSY
5087-403634-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY
5085-413143-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY
5087-403641-12 CWH (HPB200C) ASSY
5087-403642-11 PIN BASE (CWHB200C) ASSY.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是為了能夠生產具成本效益、高解析度的蒙版而開發的光刻膠設備。該系統特別采用深紫外線（DUV）照明和自動圖像處理技術的組合，生產出精確、高分辨率的口罩。該單元的基礎是光刻膠的使用，光刻膠是對光反應的材料層。光致抗蝕劑使用戶能夠精確地控制材料在光線下的暴露，從而提供一種在表面上放置圖案的方法。為了保證精度，光刻膠被應用在多層，每一層具有不同的吸收特性和曝光水平。光是由光刻機的DUV照明單元產生的，該單元使用激光器將圖案投射到光刻層上。光的強度被精確、精確的控制，光抗蝕劑根據其吸收特性和曝光水平成比例地吸收光。光施加後，光刻膠被開發出來，從這一點上，處理步驟將準備好的光刻膠層轉換成具有預定設計的掩模。使用TEL Lithius光敏工具的關鍵優點是精度和可重復性。該資產可用於生產分辨率很高的口罩，其特性小至10納米。此外，自動圖像處理技術有助於確保所產生的模式準確和可重復。TOKYO ELECTRON Lithius photoresist model also produces masks that is the met-bel-helfic它的激光器可以一次創建多個掩模，降低制造成本。此外，該設備利用最少的材料和能源，實現了高效的資源利用。總體而言，Lithius是一種可靠且經濟高效的光刻膠系統，能夠生產精確的口罩。它結合了DUV照明和自動化圖像處理技術，確保了一致的結果和高效的資源利用。因此,此單元非常適合生產用於各種應用程序的高分辨率口罩。
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