二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9185423 待售
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單擊可縮放
ID: 9185423
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
(2) Coater / (3) Developer systems, 12"
Coaters:
(8) Resist nozzles
With (2) temperature controllers
Touch filters for resist / Solvent
Mass flow controller
Developers:
NLD Nozzles
With (3) temperature controllers
(3) PRD Nozzles
Touch developer filter
Thermo controller unit (TCU) inside track
Single block track
(4) Blocks interfaced / Wafer transfer robot arms:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Cassette FOUP designs
SECSI/II / HSMS / GEM Interface
Interface: NIKON S308
(2) Adhesion process stations (ADH)
(5) Chill plate process stations (CPL)
Transfer chill plate (WCPL)
(2) Low temperature hot plates (LHP)
N2 Purge capability
(6) Precision chilling hot plate process stations (CPHG)
Wafer edge exposure system (WEE)
Buffer cassette, 3"-6"
Hard disk not included
Sub components:
Temperature / Humidity controller
(2) Chemical cabinets
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一種用於半導體器件制造成像過程的光阻設備。它是一種先進的工具，用於創建具有極好分辨率的電路模式。該系統使用紫外線（UV）光和溶劑的組合來去除光掩模投影區域中的光敏材料。與其他光刻技術相比，光掩模用於在基板上鋪設設計圖案，分辨率極佳。光致抗蝕劑是一種施加在基板上的感光材料，用於將圖樣蝕刻到晶圓或板上。然後使用溶劑從底物中化學去除抗蝕劑材料，以顯示圖樣。TEL Lithius單元設計用於精確控制抗蝕劑暴露過程。它有一個閉環機器，可以準確檢測過程何時完成，並包括一個高級階段控制工具，用於在抵抗暴露過程中自動調整到基板的表面。該資產還具有若幹優勢。它速度非常快，全長晶圓的曝光時間僅為2.6秒。它具有非常低的熱影響，因此半導體器件不會受到曝光過程的任何不利影響。它也是為了與廣泛的光刻膠材料相容而設計的，因此模型可以被用於開發極端解析度的圖樣。除了這些特性外，TOKYO ELECTRON Lithius設備效率很高。它提供低功耗要求和高吞吐量,允許在短時間內生產許多設備。它還具有較低的維護成本，因為該系統需要最低限度的維護，同時產生高質量的結果。鋰單元是早期生產級半導體器件制造的理想選擇。其先進的成像技術和與光刻材料的廣泛兼容性使其成為發展和制造尖端半導體器件的最佳選擇。
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