二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9275250 待售
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ID: 9275250
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
(5) Coater / (5) Developer system, 12"
AT-850F
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是在半導體和集成電路(I/C)制造過程中的多個行業中使用的一種專用光阻設備。光致抗蝕劑是指一種光敏材料,用於選擇性發展電子元件內的結構,如蝕刻或沈積的金屬。光致抗蝕劑是光刻過程中的關鍵步驟,用於在I/C芯片上創建不同的層和路徑。TEL Lithius光刻膠系統使用光掩模,用於定義半導體器件的特性。該單元首先塗覆一層光敏材料,稱為光抗蝕劑。然後將光掩模放置在光刻膠的頂部,並使用光來曝光光掩模中定義的區域。裸露的區域使光致抗蝕劑變硬或固化,而未暴露的區域則保持可溶性。光被去除後,顯影劑溶液被應用到表面去除了暴露的光致抗蝕劑,從而揭示了基板上的光掩模圖樣。TOKYO ELECTRON Lithius光刻機中還裝有一個濕加工工具,可以用來蝕刻暴露的圖樣和沈積額外的材料。濕法包括:光敏帶、油漆帶、抗灰、濕蝕刻、抗蝕帶和蝕刻、沈積和塗層。該資產提供了高水平的工藝控制,可以在I/C芯片表面上重復蝕刻和沈積材料。鋰光致抗蝕劑模型還提高了制造產量,因為它可以識別潛在的缺陷,並在濕法加工過程中消除它們。設備還使用計算機控制成像來確定最佳蝕刻沈積工藝。這有助於最大限度地減少制造過程中所需的周期數,從而節省寶貴的時間和金錢。綜上所述,TEL/TOKYO ELECTRON Lithius photoresists system是I/C制造工藝中使用的一個可靠高效的單元,用於在各自的層上開發和沈積材料。該機具有較高的工藝控制水平、較高的產量、較短的周期時間和改進的缺陷識別。
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