二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9308715 待售
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ID: 9308715
晶圓大小: 12"
(2) Coater / (3) Developer systems, 12"
Single block for NSR S308
(4) Blocks interfaced:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Wafer transfer robot arms:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Cassettes FOUP Design
SECSI/II, HSMS and GEM Interface required IUSC
Interface is to NSR S308
(2) Coaters (COT)
(4-8) Resist nozzles with temperature control per coater
One touch filter
For resist and solvent
Mass flow controller
(3) Developers (DEV)
NLD Nozzles with temperature control per cup
(3) PRD Nozzles
Developer
One touch developer filter
Thermo Controller Unit (TCU) Inside track
(2) Adhesion Process Stations (ADH)
(5) Chill Plate Process Stations (CPL)
Transfer Chill Plate (WCPL)
(2) Low Temperature Hot Plate (LHP)
N2 Purge capability
(6) Precision Chilling Hot Plate Process Stations (CPHG)
Wafer Edge Exposure system (WEE)
Interface block
Single pincette wafer transfer with centering guides
For standard wafer arm and interface panel to accommodate
Buffer cassette, 3"-6"
Subcomponents:
Temperature
Humidity controller
(2) Chemical cabinets
AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius提供了一種先進可靠的光刻加工設備，用於開發光刻膠圖樣。光致抗蝕劑是在光刻工藝中用於在金屬、塑料、陶瓷、半導體等材料中產生圖樣的材料。TEL Lithius提供了一個集成的處理系統，允許在多種材料上開發光刻膠。光致抗蝕劑通過自旋塗層應用於材料表面，然後暴露於各種波長和強度的光中，以便有選擇地去除或硬化光致抗蝕劑。產生的蝕刻圖樣取決於光照和光致抗蝕劑的結晶。光刻膠也可以使用光掩模（photomask）來圖樣化，這是一種圖樣化的光傳送介質，或是一種可程式化的電腦所產生的圖樣。這一單元設計用於處理各種材料，包括矽片、玻璃板、聚合物、紙張和紡織品。然後利用各種溶液來開發暴露的基材，這些溶液可以高精度地將暴露的光致抗蝕劑去除或硬化到基材上。其結果是具有精確特征和高表面質量的圖樣基板。這臺機器具有自動對準和獨特的薄膜散布機制，可確保光刻膠能準確均勻地應用於基板上。它還采用了一種創新的工藝室工具，具有可調曝光和恒溫，以創造一致的結果。車載資產控制還允許設定一系列參數，包括曝光時間、光的波長和快門速度，以創造最有效的結果。該模型還包括一個綜合監測設備，以確保可重復的結果。TOKYO ELECTRON Lithius photoresist system is designed to be one of the most reliable and advanced rithography processing system that processes supported reliable and它是專門為允許各種材料的自動化加工而設計的，具有精確和可靠的結果。
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