二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9351478 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一種用於半導體和光掩模制造的光阻設備。該系統采用先進的直接寫入激光光刻（DWL）單元，以創建細紋抗蝕劑。它具有25nm的分辨率能力,適合在設備和光掩模制造中創建最新的納米級特性。TEL Lithius機器是光刻技術的最新產品，提供了極高分辨率、高通量、低成本的光刻工具。這一資產用途廣泛，可用於各種不同的抗蝕劑過程，從傳統的正/負光致抗蝕劑到幹膜光致抗蝕劑和自旋塗層光致抗蝕劑。除了提供先進的光刻技術外，TOKYO ELECTRON Lithius模型還提供了卓越的工藝控制，並配備了板載計量設備來監控抗反射率。抵抗模式的過程從光刻膠的照明開始。鋰系統利用聚焦激光器和光學單元精確對準激光束以繪制光刻膠圖樣。這臺機器能夠編寫一個單一的抵抗模式，最好的特征大小為25 nm。然後幹洗的集成工具可以在開發步驟之前從基板上清除任何雜質和其他抗蝕劑。一旦開發出抗蝕劑，它就可以與車載計量資產進行平面化和金屬化。TEL/TOKYO ELECTRON Lithius的專有計量學模型提供了對抗蝕劑反射率的反饋，以優化基板對金屬沈積過程的條件。計量設備還能夠監測蝕刻速率、蝕刻均勻性和金屬沈積速率。一旦光致抗蝕劑系統完成其抗蝕劑圖樣和金屬沈積過程，可以進行化學機械平面化、蝕刻和電介質沈積等附加的後處理步驟。然後將生成的設備準備好進行包裝並運送給客戶。總之，TEL Lithius先進的設計和處理能力使其成為任何半導體或光掩模制造工藝的絕佳選擇。憑借其卓越的分辨率、高通量和計量單元性能,這臺機器可以幫助加快設備的創建,同時減少周期時間和成本。