二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9397192 待售
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單擊可縮放
ID: 9397192
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
System, 12"
Material / Chemical:
Operating system: LINUX / Windows
SMIF
Hard Disk Drive (HDD) missing
Process: HT-PYRO (1250C)
Safety: TEL Standard
Layout type: U/Box
Tool direction: LL
Front furnace body: Coating (FDP Standard)
Heater [Range of temperature]: High VMU-40-007EXT(41) [850-1250°C]
Process:
Pressure: ATM
Temperature: 1250°C
Wafer / Cassette transport:
SEMI Standard - Notch, 12"
T/S Wafer jump out detection
Fork type / Material: 1+4 / Al203
Wafer In / Out order: ED -> P -> M / M -> P -> ED
Cassette:
Miraial (MK-823S-H)
Slot: 26
Stocker: 21
Monitor cassette:
In P1, P2, M / Out P1, P2, M
Fork :
Wafer detection
Wafer displacement detection
Pitch conversion
Hardware composition:
Load module:
(4) TEL / SEMES Standard load ports
(1) TEL / SEMES Standard loader arms
Transfer module (platform):
(5) TEL / SEMES Standard transfer robot arms
Process module:
TEL / SEMES Chamber process module specification
(17) Pumps
RF Generator
Gas box
PC
Utility:
Distribution panel
THC
Chiller
(2) Chemical boxes
ETC
Parts and tool
Module:
(4) PM1 Soft bakes
(5) PM2 PEB
(5) PM3 Hard bakes
(3) PM4 ADH
(5) PM5 COT
(5) PM6 DEV
(1) PM7 WEE
(1) PM8
(1) PM9
Litho tool:
Lens
Laser
Light source
Alignment
Power
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一款用於制造和生產半導體和其他電子相關元件的前沿光刻設備。光致抗蝕劑是一種光敏聚合物，用於各種微加工和光刻工藝。TEL Lithius系統由四個主要組件組成：液晶顯示屏（LCD）成像儀、對準器、步進工具和跟蹤單元。LCD影像儀使用先進的光學器件來生成高精度的圖像掩碼。生成的圖像數據（稱為版面）已編程到液晶顯示屏中。然後將布局投影到光刻塗層晶片上，平版印刷過程開始。為確保精確定位，液晶屏成像儀經過了8倍放大的測試，對準精度優於1微米，這在精密元件的生產中很重要。該對齊器用於將光刻塗層晶片精確定位到步進器工具上。這是用視覺機器和晶片處理程序執行的，這兩者都能夠按照預定的步驟快速準確地移動晶片。對齊器還利用局部電極霧化器（LEA）工具，在光刻塗層晶片對齊時盡量減少圖樣的破壞。步進工具是資產的核心。它包括一個先進的步進頭與電動底座，精密級和高分辨率顯微鏡。步進頭負責控制照明和為步進工具供電，而底座則使晶圓能夠安全、精確地移動。顯微鏡允許定位和對準光刻塗層晶片，並且能夠成像尺寸小至十分之一微米的特征。TOKYO ELECTRON Lithius模型的最後一個部件是軌道設備。這是負責分發在光刻過程中使用的化學品。軌道是一個平臺系統，它按精確、有序的順序向適當的工作站分發化學品，如顯影劑和光致抗蝕劑。這有助於確保生產過程的一致性和準確性。綜上所述，鋰單元是用於生產半導體和其他電子相關元件的最先進的光刻機。其LCD圖像儀提供精確的圖像定位和對準，而對準器便於光刻塗層晶片的精確定位。步進工具確保精確成像和控制，跟蹤工具以有序和統一的方式分發化學品。這些組件共同確保了光刻塗層組件的正確和高效生產。
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