二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #143980 待售
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單擊可縮放
ID: 143980
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
Coater / Developer system, 8"
Process: PIX Coat
Software Version: MK807.38
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 4 Loader Uni Cassette
System configuration:
Clean track Mark7
Mark 7 main body
Carrier station 1 x 4 side loading
UPS applicable for AC power box upgrade
Process station block
High speed interface station for canon es3
Wafer edge exposure (wee)
Inline thickness measurement system
Car applicable system closed environment
Solvent supply system for cot unit
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
Dev solution supply system
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
NH3 monitor specification
Photo resist coater unit (2 cups)
(1 nozzle per cup with RDS pump for cot 2-1, 2-2 & 2-3)
(1 nozzle per cup with cyber pump for cot 2-1)
Coater cup temperature synchronized control system
Developer unit (2 cups)
(E2 nozzle + normal rinse nozzle; 1set)
Degas module installation
Adhesion unit (ADH)
Hot plate
Cool plate
Precision hot plate (PHP)
Precision chilling hot plate (PCH)
Air control kit for PCH & PHP
Trancision chilling plate (TCP)
External chemical cabinet
Temperature & humidity controller esa-4 (CAR)
Temperature control unit (TCU)
Software options
On-line software (TEL-GEM standard)
Advance cascading software option
Parallel processing software option
Process log software option
TEL S2-93 safety specification
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光抗蝕劑設備是一種用於在半導體晶片上創建圖像的系統。這個單元使用兩種不同類型的光刻膠，正色調（Positive Tone）和負色調（Negative Tone），來在晶圓上塗上感光材料，根據使用的類型對不同波長的光作出反應。機器結合了兩種不同的技術在晶片上創建圖像：Photo Masks和Direct Write。照片面罩是印在膠片上的圖案。然後，膠片位於光源和晶片之間，根據使用哪種類型的光致抗蝕劑，光線會被阻擋或允許通過遮罩，從而影響晶片上的光致抗蝕劑。Direct Write是一種計算機控制的工具，它使用精細的聚焦光束直接在晶圓上繪制圖樣。TEL MARK7 Photoresist Asset由幾個組件組成,包括質量流模塊（MFM）、負載鎖和定向模型、微調器、機器人類型自動轉換設備（RTCS）、掩碼對齊器和直接寫入系統。MFM測量與光刻膠燒杯相關的幾個參數，如溫度、氣體流量和壓力，並根據需要進行調整。Loadlock and Orientation Unit將晶片置於旋轉器中指定的位置。Spinner高速旋轉晶片，在表面上提供均勻的光致抗蝕劑塗層。機器人自動更換機自動用新鮮的光刻膠代替舊的燒杯.口罩對齊器接收膠片口罩並將其聚焦到晶片上。最後，直接寫入工具使用激光根據預定參數在晶片上繪制圖樣。不需要的光致抗蝕劑然後用清潔工藝除去，這通常涉及酸的混合物。整個過程只需幾秒鐘，就能產生亞微米特性。TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist Asset是用於在半導體晶片上創建圖像以制造集成電路的眾多系統之一。它非常精確、可靠、高效，徹底改變了半導體產業。
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