二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9026272 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7是一款為半導體器件制造中的最先進的應用而設計的光阻設備。該系統以場效應成像（Field Effect Imaging，FEI）光刻技術為基礎，在矽基板上形成光阻薄膜，並使用電子柱有選擇地暴露於光。光阻用狹窄的電子束照射，而電子束的強度被調制以產生由標線定義的二維圖樣圖像。暴露於光束的光阻被選擇性硬化，而未暴露的光阻則通過使用溶劑除去。重復此過程可創建設備制造所需的亞微米特性。TEL MARK7具有高級的打字功能,包括生產可持續到0.1微米（100納米）的功能。因此，該裝置非常適合亞微米級特征制造和高通量生產。該機器還具有高性能的曝光後烘烤（PEB）功能,能夠在高達1000 °C （1832 °F）的溫度下進行曝光後陣列。這對於高溫過程如鋁植入和鎢沈積特別有用。TOKYO ELECTRON MARK-7還具有廣泛的曝光和PEB工藝選項。調制傳遞函數（Modulation Transfer Function，MTF）是這些過程選項中的一個重要特征，它允許通過使用動態測量能力和高度線性的過程曲線來精確確定暴露劑量。提供板載校準,以減少用戶的安裝時間並提高吞吐量。TEL MARK-7的其他有用功能包括集成的自動對焦和再循環泵,以提高過程的可重復性,以及靈活的機器人就緒端效應器。易於使用的圖形用戶界面使用戶能夠輕松監控工具性能並設置自己的流程參數。對過程參數的準確監控意味著可以快速識別和糾正過程中的故障,從而降低產品汙染和產量故障的風險。該資產具有高度可擴展性，可以根據不斷增長的吞吐量要求添加配件，例如為加工化學品增加供應罐。它還具有溫度均勻性選項,允許在整個暴露區域內保持均勻的基板溫度。總之，TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7模型是亞微米制造和高通量生產的理想解決方案。它能夠快速準確地創建低至0.1微米的精確功能,同時它的集成功能和用戶友好的控制減少了設置時間並提高了可重復性。