二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098203 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光抗蝕劑設備是一種用於各種半導體器件制造工藝的最先進的制圖技術。該系統將先進的光刻和蝕刻技術與開創性的光刻化學相結合，產生了不到一百納米的高度精確和精確的幹蝕刻工藝。TEL MARK7裝置采用獨特的光刻膠片設計，對高攻擊性的幹蝕刻化學材料具有優異的抗性，但在細膩的基材上仍可提供高達0.1 um的高分辨率。光致抗蝕劑材料可以調整以處理不同的幹蝕刻過程，如反應性離子蝕刻（RIE）、離子磨蝕刻和等離子體蝕刻，這取決於應用要求。此外,該機器還可配置用於各種光刻膠塗層,包括正音和負音光刻膠,以及化學放大光刻膠,從而實現更高的分辨率。TOKYO ELECTRON MARK-7石刻工具的設計提供了精確度和可重復性的結構蝕刻到不到一百納米。該資產的特點是專有的激光掃描技術允許晶圓精確對準，消除了由於蝕刻和後處理而造成的昂貴的掩模不對準。TOKYO ELECTRON MARK 7還具有改進的特征輪廓精度和幹蝕刻副產品的快速蝕刻後去除功能,從而加快了周轉時間並提高了產量。此外，該模型經過設計和測試，以滿足所有適用的環境要求，如歐盟的RoHS指令和REACH條例。最後，TEL/TOKYO TEL MARK-7設備提供了一個全面的軟件包，以支持光刻膠圖樣制作過程。先進的軟件工具,如自動抗蝕劑修剪和光學接近校正（OPC）工具,可幫助實現高精度的陣列和精確的OPC,以滿足嚴格的設計布局要求。集成的無掩碼技術進一步增強了TEL/TOKYO ELECTRON MARK7系統的工藝能力,從而實現了快速且經濟高效的設備集成。