二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9241222 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
TEL (TE) TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光刻膠設備(Photoresist Equipment)是一種半導體製造用於光刻膠薄膜層的沈積和圖案化的裝置。它旨在滿足當今半導體行業的先進需求,能夠產生高分辨率圖像和具有精確長寬比的圖樣。系統由三個主要組件組成:控制器、穩定表和光學室。控制器是單元控制和操作的主要組件,利用實時計算、數據分析和反饋信號滿足嚴格的流程要求。穩定的工作臺可確保在塗層和圖案化過程中準確放置基板。光學室負責成像過程,並對用於制圖的激光束的路徑長度和定位進行精確控制。TEL MARK7還具有多項功能,可提高性能和準確性。采用低溫等離子體活化層來保證均勻的抗蝕層厚度,提高抗蝕劑對基板表面的附著力。使用高分辨率的二進制步進器和先進的光學腔室可以精確控制光照,從而形成高分辨率的模式。此外,機器還具有微調過程以獲得所需的最終模式的功能。使用TOKYO ELECTRON MARK-7,用戶可以實現尺寸小至0.125微米的薄膜層的精確微加工。憑借精確控制光照的能力,用戶可以創建各種形狀和特征大小的圖層。該工具還支持廣泛的操作參數,包括脈沖頻率、光斑大小和曝光能量。這使得MARK7成為創建復雜形狀和特征大小處理的合適資產。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7為用戶提供了簡單直觀的用戶界面,允許模型的簡單設置和操作。設備還配有全面的診斷和控制系統,允許用戶監控流程的每一步,並進行必要的調整。最後,TE TOKYO ELECTRON MARK7光致抗蝕劑裝置為光致抗蝕劑的沈積和成型提供了有效的平臺。它結合了先進的特性、先進的光學和全面的機器控制,使用戶能夠產生具有精確長寬比和特征大小的高分辨率圖案。這些特性使得TOKYO ELECTRON Mark 7成為制造薄膜設備和應用的理想工具。
還沒有評論