二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9250083 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7是一種高度先進且用途廣泛的光刻設備，常用於半導體製造。它能夠生產復雜的金屬、聚合物和/或結晶材料層，以便制造電子元件和其他復雜的微型裝置。該系統由一個大型環境室內的一系列組件組成，該室設在一個潔凈室設施內。該過程從一層薄薄的光刻膠材料開始，該材料被應用到器件基板上。底物再暴露於極紫外線（EUV）光脈沖下，從而觸發光抗蝕劑內的反應。由於暴露在外，分子之間形成化學鍵，形成EUV光束中圖樣特有的形狀。這種化學反應使光致抗蝕劑變硬，為過程中的下一步提供了掩模。然後將硬化的光致抗蝕劑暴露於化學蝕刻中，該化學蝕刻去除基材的任何暴露部分。蝕刻化學物質為氣態或液態，沈積在基材上。在整個基板上重復蝕刻過程，直到將所需的形狀蝕刻到材料中。這種化學蝕刻高度精確，可以進行高精度的監測和調節。值得註意的是，蝕刻過程允許形成復雜和精確的電路線路，這對於復雜的微型設備是必不可少的。接下來，剩余的光致抗蝕劑用等離子體灰燼除去，從而可以應用另一種材料沈積。這一階段使用的材料通常是聚合物，由於其先進的工藝控制特性，可以非常精確地應用。該單元還允許材料選擇優化，允許優化材料的電子特性，如電導率。TEL MARK7工藝的最後一步是金屬層的沈積，如鋁或銅。金屬沈積過程類似於聚合物沈積過程，但涉及使用一種特殊的真空工具，稱為濺射沈積機。該工具旨在為金屬沈積在基板上提供有效的真空處理。值得註意的是，濺射沈積工具可以高度定制和控制，允許開發用於互連的復雜金屬觸點。與其他工藝不同的是，TOKYO ELECTRON MARK-7能夠處理多層金屬，允許形成更深層次的互連或構建多層結構。MARK7是生產復雜電子設備和微型設備的絕佳資產。它將光刻、聚合物沈積和金屬沈積等幾種技術結合成一種無縫工藝。這種對整個過程的緊密控制可確保系統輸出的質量非常高,從而能夠構建具有精確尺寸的復雜設備。