二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109446 待售
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ID: 9109446
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
(2) Coaters / (2) Developers System, 8"
2C2D/5HP/2DHP/6CP/1AD/1WDS/1WEE
2-1 RRC x2
EBR cylinder
2-2 RRC x2
THC
C/B
Local
9801F
RtL
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蝕劑設備是半導體工業中使用的一種強大的光刻工具,對於創建高精度和高性能電子元件至關重要。TEL MARK8系統是一種先進的光刻設備,提供卓越的圖像質量和分辨率.它使用氮陰影技術在設備基板上創建復雜的圖樣。機器由抗蝕劑輸送工具、激光源、光學組件和支撐資產組成。抗蝕劑輸送模型能夠準確控制每個圖樣所需的抗蝕劑的數量。它還允許用戶精確選擇所需的抵抗區域寬度。設備中的激光源是CO2激光器,能夠調節波長和脈沖持續時間,產生各種模式。該激光器設計成可創建10nm分辨率的圖樣。光學組件包括能夠傳送高質量圖像的成像光纖。它還被設計為最大限度地減少像差和最小化抵抗擴散。支持系統支持自動化陣列功能,以改進流程控制。TOKYO ELECTRON MARK-8光致抗蝕劑單元提供穩定、高精度的成像過程,吞吐量無與倫比。它能夠在一個曝光過程中創建多層模式。該計算機設計為用戶友好,並提供了廣泛的可自定義選項,以確保正確執行進程。用戶可以選擇諸如曝光參數、圖案間距和鏡頭大小等參數。此外,該工具還配備了監控資產,以確保所有模式都以最高質量創建。TEL/TOKYO ELECTRON MARK8光致抗蝕劑模型適用於多種底物,包括矽、砷、玻璃。該設備可廣泛應用,包括微電子、光電子、醫療設備等。該系統也非常可靠,無需額外維護或校準即可操作。總體而言,TOKYO ELECTRON MARK 8是一個先進的光刻單元,提供卓越的圖像質量和分辨率。它是為各種應用程序創建復雜模式的理想機器。該工具設計為便於用戶使用,並提供過程控制功能,以確保正確形成模式。資產也非常可靠,可以操作,不需要額外的維護或校準。
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