二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109451 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蝕劑設備是為晶圓制造中先進的光致抗蝕劑加工而設計的。它為半導體工業的晶圓制造工藝提供了精密的光刻技術。TEL MARK8 Photoresist System使用高分辨率的掩模對準器來對準光刻膠薄膜,並將其暴露在晶片表面上。它配有高速激光器，提供光掩模與晶圓的精確對準。對準器還具有自動噴霧對準能力，具有可調的間距範圍，以滿足不同晶圓設計的要求。光致抗蝕劑材料保存在一個罐體中，該罐體可以設計成適合晶圓的大小。該材料被泵送到加熱到所需溫度的熱室，然後轉移到旋轉站。光致抗蝕劑以受控速度旋轉到晶片上，形成一層薄薄的光致抗蝕劑。同時，光致抗蝕劑從掩模對準器和直接成像工具中暴露在紫外線下，以實現所需的結果。這一過程被稱為暴露光致抗蝕劑。TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit有一個稱為「多層光刻膠噴霧」的功能，設計用於高精度晶圓制造過程。這一特性使光刻膠可以在晶圓上多層噴塗。每層噴塗暴露後，將材料加熱或冷卻以固定光刻膠層。然後將顯影晶片轉移到顯影站，在那裏應用化學顯影劑，如堿性溶液，從晶片中剝離暴露的光致抗蝕劑。最終的結果是一個清潔晶片準備進一步處理。為了獲得一致的結果，機器配備了溫度和壓力控制工具，以便更好地控制光刻膠工藝中的各個步驟。資產還附帶各種軟件工具，使用戶能夠從頭到尾監控和控制光刻過程。TEL MARK-8 Photoresist Model還與其他各種晶圓制造設備兼容，確保了光刻工藝容易融入更大的晶圓制造過程。