二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155211 待售
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單擊可縮放
ID: 9155211
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
Wafer coater, 8"
Carrier station type: Open cassette
Wafer loading type: Right to Left
Software version: MK8H2.78(MC) M8B9083D.00 (Block)
Coater unit:
Pump model: RRC
Nozzle count: 3
Development unit:
Dev nozzle: H-Nozzle
Dev nozzle Count: 2
Up/Down move: Cylinder
Rinse nozzle: Stream
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光刻設備是為光刻沈積和處理而設計的先進光刻系統。它采用了先進的掩模投影技術，使微結構的光刻膠薄膜能夠投影到矽片上的圖樣上。這使得它非常適合MEMS、光學和微流體設備等應用。該單元由基板級、遮罩投影機和防腐塗層工具組成。基板級用於將基板固定到位，能夠控制基板的溫度和濕度。掩模投影資產是模型的主要組成部分，由激光投影儀、對準光學器件和光學清潔維護設備組成。激光投影儀采用327納米激光線，能夠將高分辨率圖樣投射到基板上。對準光學器件用於將激光束對準掩模場，光學器件為光刻膠圖樣提供高精度。光學清洗和維護系統有助於清除沈積過程中的汙染。抗蝕劑塗層單元用於將光致抗蝕劑材料塗在基板上。該機采用高壓噴霧工具，將一層薄薄均勻的光刻膠塗在基板表面。噴霧裝置配有多個噴嘴和一個計算機控制程序，確保光刻膠均勻準確地沈積。TEL MARK8 Photoresist Model的15年壽命精度保證為0.1 μ m,並提供可靠和準確的結果。適用於高精度光敏沈積應用。它在工業上被廣泛用於3D打印、MEMS、光學、微流體設備等應用。
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