二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155226 待售
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ID: 9155226
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
Wafer coater, 8"
Wafer loading type: Right to Left
Software version: MK8H2.78(MC) M8B9083D.00 (Block)
Coater unit:
Pump model: RRC
Nozzle count: 3
Development unit:
Dev nozzle: H-Nozzle
Dev nozzle Count: 2
Up/Down move: Cylinder
Rinse nozzle: Stream
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8是一種光刻設備，設計用於光刻和半導體制造工藝。它利用尖端技術將感光材料精確地暴露在光線中，從而在半導體晶片上創建圖樣和其他圖像。該系統已被廣泛應用於集成電路（IC）的制造，以及其他微電子元件和器件。TEL MARK8利用一個單元集成的數字激光源單元（DLSU）來產生一系列波長的激光，包括深紫外線範圍內的激光。紫外線照射能量可以以微焦耳增量設置，從而使成像過程具有極好的分辨率。激光的可變視場（VFoV）允許範圍廣泛的曝光場尺寸，從幾毫米到高達8英寸（200毫米），允許在光刻過程中增加靈活性和精度。機器還包括一個級機構，可以在三個軸方向（X、Y、Z）移動晶圓。結合激光源單元，這使得晶圓背面及其正面的感光材料能夠精確、精確地曝光。該級還具有極低的熱漂移，具有優異的上行時間性能和晶片到晶片的可重復性。TOKYO ELECTRON MARK-8還配備了全自動載荷鎖（FALL），可以讓多個晶片從主室快速、容易、安全地轉移到加工室。FALL工具最多可容納二十（20）個晶片,而半自動晶片裝載機可將數量增加到五十（50）個。TEL MARK-8的處理選項是由手動旋鈕或通過計算機驅動的設置,從而可以精確控制處理參數。資產還提供其他流程選項,包括高級排水方法、故障檢測功能和模型診斷。最後,可以對設備進行定制以滿足特定的客戶要求,例如附加的過程參數、專用的硬件和軟件以及其他附加功能。Mark 8是一種通用、高精度的系統，為光敏材料的精確曝光提供了卓越的精度、重復性和可靠性。通過優化這些曝光參數，該裝置非常適合各種IC制造和微電子器件制造工藝。
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