二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9161033 待售
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ID: 9161033
(2) Coaters / (2) Developers system
(2) AD
Open cassette, 8"
(4) STG In / (4) STG Out
(5) HP
(7) Chillers
WEE
1994 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蝕劑設備是專為制造半導體器件而設計的自動化處理系統。它基於Class PB 1000處理平臺,利用先進技術提供卓越的性能和可靠性。該設備的平臺包括多種功能,如為所有類型的半導體制造過程預先配置配方的多過程功能、學習如何優化過程操作的智能過程控制引擎以及易於導航的圖形用戶界面。此外,該平臺與所有類型的材料和工藝兼容,包括光刻、蝕刻、清潔和沈積工藝。TEL MARK8 Photoresist Machine利用多種特殊功能進行高效的光刻處理。它包括一個高精度的曝光工具,它能夠精確地將光刻膠暴露在晶片上。這一資產可以準確控制光刻膠的曝光和曝光時間,從而確保產量。此外,它還配備了自上而下的流程監控模型,以實現卓越的流程控制和監控。該平臺還包括預配置的基板保護設備。這保證了光致抗蝕劑經過均勻的塗層,使其特性即使經過生產過程也保持一致。平臺的另一個重要特點是先進的光刻膠開發系統。這保證了光致抗蝕劑的開發沒有任何過量殘留物,其蝕刻速率得到優化。為了保證光刻膠加工的精確度,TOKYO ELECTRON MARK-8光刻膠單元配備了集成監控機。該工具監控光刻膠在晶片上的停留時間、曝光時間、環境溫度和濕度。這有助於在整個生產過程中保持一致的光刻膠質量。TEL Mark 8 Photoresist Asset還附帶了一系列集成工具,以簡化生產流程。這些包括先進的機器控制功能、過程的自動化監控、集成警報和警告以及趨勢分析。此外,該模型能夠每小時處理多達50個晶圓,使其極具效率和成本效益。總體而言,TOKYO ELECTRON MARK 8光刻設備是生產半導體器件的自動化、高效、可靠的平臺。能精確處理光刻膠,控制曝光和顯影時間。此外,該平臺還包括一組集成功能,旨在優化生產過程產量並節省寶貴的時間。
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