二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9233994 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 8光抗蝕劑設備是半導體工業中常見的用於薄膜沈積過程的最先進的實驗室設備。該系統有一個自動晶片裝載機，一次最多可容納200個晶片，還有一個掃描臺，可以進行晶片旋轉和精確的晶片定位。此外，TEL MARK8還配備了精確沈積調節計時器，實時監測沈積過程的高分辨率顯微鏡，以及在微觀層面建立復雜薄膜結構組合的各種光刻儲層。TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit通過激光制導傳感器技術和機械化工藝相結合，能夠在半導體晶片上準確高效地沈積光敏材料薄膜。為了達到理想的效果，機器利用真空室內的沈積槍陣列，將光敏材料精確地沈積在晶圓上的單層中。對火炮進行調整，使其利用真空壓力、精確的攻角和變化的速度，在沈積光敏材料時提供高精度和重復性。TEL/TOKYO ELECTRON MARK8工具所使用的真空室使使用者在沈積過程中能夠達到最佳的沈積均勻性和溫度控制。此外，TEL MARK-8能夠通過使用可調節的噴嘴速度和軟件可控制的快門機構，為每個沈積槍提供均勻的塗層厚度。由於這種精確的沈積技術，TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Asset可以生產用於數字設備、計算機和其他消費電子產品的高質量芯片組和集成電路。MARK-8光刻膠模型提供了一套廣泛的工具和資源，以實現高效和可靠的薄膜沈積過程。TOKYO ELECTRON MARK8設備具有精確優化沈積速度和厚度以及精確監測半導體晶片生長的能力，具有極好的重復性和小於0.1納米的方差。該系統為優化半導體光刻和沈積工藝提供了可靠、經濟高效的方法，從而生產出質量更高的芯片組和電子元件。