二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293756479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment是提供最先進的光刻性能的最先進的系統。光刻是半導體和其他電子設備制造過程中使用的一種工具，用於在基板中創建特征和圖樣。TEL MARK II光刻裝置設計用於超小型、高精度的光刻應用。強大而緊湊的機器提供快速、精確的光刻塗層和成像能力。該工具配備了高精度液體分配器、可編程機器人手臂和成像資產，可以精確控制曝光和間隔參數。該模型的高精度液體分配器被設計成沈積在基板上的光刻膠的均勻層。機器人手臂然後精確定位材料以便暴露於光，成像設備提供對曝光強度、持續時間和入射角的精確控制。該系統具有三級曝光單元，由光源、皮帶機和照相面罩組成。光源由多種氙弧燈、UV激光二極管和DXR光源組成，提供了一系列的曝光強度和脈沖長度。皮帶工具配備了各種功能，如X-Y平移級、具有一定延伸範圍的聚焦變焦顯微鏡、步進電機驅動聚焦和變焦控制。照片掩碼用於將圖像圖樣精確傳輸到基板上。資產還包括集成的液體分配機器人、化學加工機器人和實時監視器。液體分配機器人在基板上放置均勻、多孔的光刻膠塗層，化學加工機器人控制應用、烘烤、化學加工和後烘烤，用於制備用於曝光的基板。實時監視器協助操作員監測註射和固化過程，將基板暴露於光源，控制曝光後烘烤參數。此外，該車型還配備了一系列計量功能，以確保全線準確性和均勻性。這些功能包括微米自動對準、焦點深度觀測以及光刻期間的光測量。總體而言,TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment提供了無與倫比的精確度、精確度和可重復性,可在基板上創建特征和圖案。憑借其創新的特性和功能,該系統可用於創建幾乎可以想象的任何特征大小和復雜性。