二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9144969 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是為了開發和處理半導體而設計的光阻設備。該系統是一個全面的解決方案，允許使用抑制來創建平版印刷過程。它利用納米級模式發生器和集成線性伺服執行器，提供高精度、可重復打印和對準任務。TEL MARK II確保了制造半導體器件時的最佳效率和準確性。該設備的主要工藝是制圖、曝光後烘烤（PEB）和剝離。在圖案化過程中,將抗蝕劑分配到基板上並暴露在光線下。抗蝕劑可以軟化和改變其紋理,從而使面膜和基板正確對齊。之後，利用PEB循環來硬化抗蝕劑，提高所產生的圖案精度。最後將抗蝕劑從基板上剝離，圖樣凝固。為了創建完整、準確的設計,對設備的每一層重復整個過程。機器包含各種組件，如機器人、控制器和裝卸站。它還具有用於高效烘烤和暴露抗蝕劑的腔室和真空工具，以及用於精確放置口罩的口罩對準資產。TOKYO ELECTRON MARK II也支持廣泛的底物，從1-D到3-D結構，包括Si、GaAs、ZnSe等等。除了其無與倫比的準確性和可重復性外,MARK II還提供了非凡的靈活性。它具有內置晶圓內部連接模型，使得能夠輕松連接和斷開基板與設備的連接。這允許用戶更輕松、更快速、更準確地重印模式。總的來說，TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是一個非常強大和可靠的光刻系統。通過使用納米精度和集成線性伺服執行器，該單元為制造半導體提供了卓越的光刻工藝。此外，靈活的設計和對大量基板的支持使我們能夠創建各種設備。TEL MARK II是開發和加工半導體的絕佳選擇。