二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9181758 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II光刻設備是一種用於光刻和微電子制造的頂級光刻設備。光敏材料是一種光敏材料，用於在半導體材料上創建圖樣以制造半導體器件。TEL MARK II利用最新技術為光刻膠加工提供精確、可重復的條件。該系統由幾個部件組成，包括處理器單元、數字接口、光刻膠增益控制器、腔室控制和晶圓處理單元。處理器單元最多可支持30種不同類型的容器，用於處理光刻膠，包括傳統的自旋和噴塗應用。這保證了TOKYO ELECTRON MARK II機可以使用廣泛的光刻膠。處理器單元還包括溫度和基於時間的可編程參數,以及用於評估光刻膠質量的光粒計選項。數字界面可方便地將該工具與其他光刻系統集成,並可實現簡化的自動化工作流程。光刻膠增益控制可確保在曝光過程中使用正確量的光能。腔室控制模塊將高精度溫度控制與真空泵和再循環結合在一起，使光刻膠的工藝溫度保持一致。最後，晶片處理資產確保了基板在從主處理器單元移動到腔室時的精細而準確的運動。該模型還包括一個不斷監測光刻膠厚度的傳感器設備，以及實時過程數據記錄。這允許修改工藝以考慮光刻膠厚度的變化並縮短工藝時間。此外，還有一些環境傳感器可以監測光敏環境的溫度和濕度。這樣可以確保保持光刻膠處理的最佳條件。總體而言，MARK II是一個強大而先進的光刻膠處理系統。配合人性化的操作、一流的性能、精細的操控，是生產高品質光刻膠的完美單位。