二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9238268 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II光致抗蝕劑設備是一種高度先進的基於抗蝕劑處理的圖像成形系統,它使用戶能夠在各種電子基板和組件上精確顯示高精度圖像。特別是該單元適合用於生產先進的半導體和微電子器件和元件。光刻機是一個集成平臺，結合了專用的加工元件，包括光刻預曝光處理單元、深層挖溝工具，以及先進的抵抗剖面化和自動分配功能。該資產旨在以超高速和極高的精確度處理薄膜基板，如半導體。此外，該模型還能夠支持廣泛的光刻技術，包括階梯覆蓋（或「步進重復」）光刻，其中極其精確的圖樣層被蝕刻到基板上。光刻設備配備了先進的光學成像系統，使用戶能夠使用紫外線激光器精確成型圖像。該單元還能夠執行各種高精度的抗預處理工藝，包括自旋塗層、噴塗塗層和預定義的圖樣開發。此外,該機器還可用於執行深矽溝槽過程,從而使用戶能夠創建具有精確間隔控制的超淺溝槽。TEL MARK II光刻膠工具提供了一種統計流程監控資產，用戶可以通過該資產安全地分析流程參數並創建具有可重復和可靠結果的高精度圖像。此外，該模型還具有較低的波長比輪廓，可確保打印過程中的總光傳輸。TOKYO ELECTRON MARK II光致抗蝕劑設備結合了高度先進的光學和加工元件，使用戶能夠在薄膜基板上精確形成精細分辨率的圖樣。該系統是高度可靠和準確的，具有廣泛的光刻和抵抗預處理過程，結合高精度成像單元，確保可重復和可靠的結果。此外，它的低波長比輪廓確保了打印過程中的總光傳輸。