二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9269120 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是一種精密的光致抗蝕劑設備，能夠在用於制造半導體器件的基板中精確形成圖樣。光刻膠系統是半導體制造集成生產線的一部分，包括薄膜的形成和蝕刻工藝。TEL MARK II由光刻膠處理模組、控制模組、薄膜形成模組組成。光致抗蝕劑加工模塊包括濕式板凳、浸入式和自旋塗層工藝。濕式臺階工藝涉及使用微型移液器應用濕式光刻膠。浸入過程使用由罐體、晶圓升降機和監視器組成的浸入單元，允許自動化處理。自旋塗層工藝將光致抗蝕劑應用於晶片表面，用於創建均勻的光致抗蝕劑層。TOKYO ELECTRON MARK II控制模塊由用戶界面、自動化軟件和控制器組成。它允許選擇光刻膠類型、自旋速度、曝光劑量、開發時間等工藝參數。它還允許用戶為重復的光刻膠應用編程生產周期。光刻機的成膜模組由兩個核心元件組成，一個膜調制器和一個控制器。它可以生產任何尺寸的薄膜和蝕刻圖案。薄膜調制器允許將光致抗蝕劑精確地輸送到基板上，並形成一個均勻的層。然後控制器允許精確控制蝕刻過程，並負責膜形成過程的整體自動化。最後,MARK II光致抗蝕劑工具是半導體制造工藝的重要組成部分.它能夠生產精確尺寸和均勻層的薄膜和蝕刻圖樣，確保快速高效的生產。