二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9269135 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II是一種用於半導體生產中性能圖樣化的光刻設備。該系統的目的是利用先進的電子投影對準技術，為掩模光刻制造高質量的半導體光掩模。該單元采用八軸掩模對準機構，具有10英寸大的線性級、高分辨率投影對準和高精度激光幹涉測量。這種先進的對齊技術可以提高掩碼保真度和重復陣列處理的穩定性。該機利用集成的檢測器單元和先進的圖像分析功能，精確檢測和識別即使低對比度和小線寬的模式。這樣可以有效地修改復雜的陣列,並確保高精度的陣列和檢查。TEL MARK II利用高分辨率光學成像工具，具有1.4至5.5µm的聚焦深度，將光精確投射到掩模晶片上。這允許在掩模晶片和掩模代理之間精確對齊。此外，該資產還配備了一個攝像頭，可捕獲多達6400萬像素的圖像。該模型還包含了衍射、彈性散射、光致發光、二次離子質譜和飛行時間質譜等自動測量儀器陣列。這有助於確保數據分析的準確性和效率。最後,設備的現代用戶友好型設計為軟件操作提供了直觀、安全的環境。這包括圖形用戶界面，以及編程語言集成。此外,系統還包括各種軟件工具和庫,可幫助用戶簡化操作並消除停機時間。總而言之，TOKYO ELECTRON MARK II單元的先進特性使其成為光刻在半導體制造中應用的理想工具。它提供可靠、高性能的陣列,可幫助提高操作效率,同時確保一流的數據分析。