二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9130725 待售

ID: 9130725
晶圓大小: 6"
優質的: 1993
System, 6" Left to Right INDEXER 4 Cassette Stage (Uni-Cassette) CONFIGURATION Main Body1 / Main Body2 / Chemical Cabinet MAIN CONTROLLER NEC FC-9801X C/S ROBOT TYPE Vacuum Arm / Ceramic Pincette MAIN ROBOT TYPE 2 Pincette Arm INDEXER Laser Diode Mapping Sensor SCR JET Nozzle / Rinse Nozzle COAT 4 Resist Nozzle / Bellows Pump 1 Gallon Resist Bottle / Thinner Local Supply (Canister) EBR Nozzle / Back Rinse Nozzle Local Drain (1ST SUS 10L Tank / Drain Pump) DEV Nozzle Tyoe : Spray Nozzle Rinse Nozzle / Back Rinse Nozzle Facility Supply / Drain WEE TEL Standard CTV-410 AD TEL Standard Local Supply (Canister) 1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V是TEL(TOKYO ELECTRON LIMITED)為半導體工業所創造的高度先進的光阻設備。光刻膠系統結合了專有技術,由幾個核心組件組成,構成TEL Mark V單元。TOKYO ELECTRON MARK-V機的核心部件是光致抗蝕劑單元,或稱為PRU。它是一種最先進的高精度工具,利用精密的光學圖樣,將光敏材料精確地應用於半導體基板上。光敏裝置采用專利技術,能夠精確調整其螺距、尺寸和形狀,並應用各種精密塗層。該機組還能在多種溫度、壓力、環境條件下工作,保持均勻穩定的塗層。這種能力可以為所有類型的光刻膠材料提供高質量的效果。MARK-V資產還具有許多其他組件,例如用於轉移口罩和晶片的精密高速機器人,用於處理基板的高速送膜器,以及用於將基板對齊和切割成單獨碎片的拆分後模型。設備還包括用於精確讀取條形碼和圖案標記的激光掃描儀,以及用於確保膠片配準和掩蔽精度的光學檢查系統。這些元件使Mark V單元能夠提供專業生產半導體產品所需的高精度、重復性和精確度。此外,這臺機器還可以提高產量,在許多不同的基材尺寸上實現最小汙染和均勻塗層質量。TEL/TOKYO ELECTRON光致抗蝕劑工具還能夠通過減少生產過程中產生的有害化學廢物的數量,提供更好的環境性能。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V資產也因其高效率的光學模型而降低了功耗,從而提高了能效。此外,設備還通過提高基板吞吐量、最大限度地減少排斥、降低缺陷相關的損害成本,幫助降低半導體生產的總成本。TOKYO ELECTRON MARK V光刻膠系統作為當今最先進的光刻膠系統之一,是尋求產生高品質、一致光刻膠結果的半導體專業人士的理想解決方案。它結合了精密、精密的元件和高效的解決方案,對那些尋求優化半導體生產的人來說是一個極好的投資。
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