二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9130774 待售
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單擊可縮放
ID: 9130774
晶圓大小: 6"
優質的: 1990
System, 6"
Left to Right
INDEXER 4 Cassette Stage (Uni-Cassette)
CONFIGURATION Main Body1 / Main Body2 / Chemical Cabinet
MAIN CONTROLLER NEC FC-9801X
C/S ROBOT TYPE Vacuum Arm / Ceramic Pincette
MAIN ROBOT TYPE 2 Pincette Arm
INDEXER Laser Diode Mapping Sensor
SCR JET Nozzle / Rinse Nozzle
COAT 4 Resist Nozzle / Bellows Pump
1 Gallon Resist Bottle / Thinner Local Supply (Canister)
EBR Nozzle / Back Rinse Nozzle
Local Drain (1ST SUS 10L Tank / Drain Pump)
DEV Nozzle Tyoe : Spray Nozzle
Rinse Nozzle / Back Rinse Nozzle
Facility Supply / Drain
WEE TEL Standard
CTV-410
AD TEL Standard
Local Supply (Canister)
1990 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist設備是一種先進的光刻解決方案,旨在快速高效地在大面積上提供精確的微觀結構。該系統結合了激光光束直接光刻（LBDL）和常規光刻技術，以及在納米級成功形成圖樣的先進圖樣技術。TEL Mark V單元能夠創建傳統光刻工藝難以開發的三維結構。TOKYO ELECTRON MARK-V機利用KRS-U1100DL，激光產生裝置，最大寫入速度5m/s，最大重復精度3nm。此設備向陣列形成設備提供激光束,然後將陣列信息存儲在其內部內存中,並將陣列信息重放到基板上。施加在基板上的激光束被顯微鏡工具聚焦成各種微結構。此外，一個內置的圖書館能夠開發各種微型機和結構，包括光致抗蝕劑、覆蓋彩色圖案和陣列、晶圓圓周識別和通過進出接觸。利用KRS-U1100DL，TOKYO ELECTRON MARK V資產具有50nm的最小場特征大小，並通過在抗蝕劑塗層基板上施加高頻、短曝光時間激光來操作。這種激光具有比其他光刻系統更深層次的蝕刻材料的能力，使得三維結構的發展遠遠超出了傳統光刻機器的能力。該模型還具有先進的抗蝕劑加工設備，它允許在整個基板上形成一個極其均勻和薄的抗蝕劑膜。這確保了精確和可重復的模式形成，並提供了一個高質量的精加工每一個微觀結構。總體而言，TEL開發的TEL MARK-V光刻膠是一種可靠而全面的光刻解決方案。它具有創新的模式形成技術，能夠成功地生產出納米級的三維結構，並具有集成的抗蝕劑處理系統，以達到高質量的效果。該單元非常適合那些需要在其基板上形成精確圖樣以廣泛應用的人。
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