二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9222912 待售
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已售出
ID: 9222912
優質的: 1999
Systems
Utility:
Drive pressure:
Unit drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Ejector drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Resist pump drive pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Vacuum pressure:
Spinner: -550 mm Hg (-73.3 kpa)
WEE: -400 mm Hg (-53.3 kpa)
C/S, I/F(V,Vz): -400 mm Hg (-53.3 kpa)
N2 Pressure:
N2 Primary pressure: 3.5 kgf / cm² (343.2 kpa)
Developer solution canister tank pressure: 1.0 kgf/ cm² (98 kpa)
HMDS Supply tank pressure: 0.5 kgf / cm² (49 kpa)
Thinner supply tank pressure: 0.5 kgf / cm² (49 kpa)
Resist bottle pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa)
Adhesion unit bubbler tank pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa)
E2 Nozzle blow pressure: 0.3 kgf / cm² (29.4 kpa)
DI Water and developer solution:
Primary pressure: 1.0 kgf / cm² (98 kpa)
Secondary pressure: 1.0 kgf / cm² (98 kpa)
Chilly water:
Primary pressure: 1.5 kgf / cm² (147.1 kpa)
Exhaust pressure:
Coater cup: 5 mm H2O (0.05 Pa)
Developer cup: 10 mm H2O (0.1 Pa)
Scrubber cup: 10 mm H2O (0.1 Pa)
WEE Lamp house: 11∼13 mm H2O (0.11∼0.13Pa)
Temperature: 20~27° C Variance to be less than 0.5° C
Humidity: 28~55% RH Variance to be less than 3% RH
Power supply: 100/200 V, 50/60 Hz, Single phase, ±10%
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK V是一種光阻設備。它是一種用於在基板（通常是矽片）上蝕刻圖樣的裝置，用於半導體制造。它的工作原理是將光敏膜（光致抗蝕劑）暴露在光線下。然後對暴露區域進行開發和化學處理。結果是蝕刻在基板上的圖樣。TEL Mark V是在精確的考慮下構建的。它具有先進的四軸平移階段，允許對基板進行精確的位置控制。具有4X至10X可調放大倍率的高分辨率光學系統，可實現精確的圖樣分辨率和對準。光學單元可以配備各種照明光源，包括高能效LED光源，以及NIR和紫外線光源。它還配備了「自動掃描」功能,以減少曝光時間並消除由於未對齊而導致陣列錯誤的可能性。TOKYO ELECTRON MARK-V是一種易用、可靠的機器。它具有直觀的用戶界面和一系列功能,可方便新手和經驗豐富的用戶使用。它可以裝載一系列的光致抗蝕劑材料，允許廣泛的模式的可能性。它還具有「智能最近鄰居」選項,允許對同一光刻膠層進行多次曝光,每次曝光都針對特定基板進行優化。此功能可提高陣列分辨率並提高產量。MARK-V還內置了觸摸屏顯示器，為用戶提供有關該工具操作的信息。這包括有關進程參數以及警告和警報的信息。這確保了用戶可以實時監控流程，並相應調整參數。TOKYO ELECTRON MARK V是一種先進、易用的光刻膠資產，以高通量提供精確的圖樣。它非常適合用於半導體制造，可靠且用戶友好，可以供經驗豐富的用戶和新手用戶使用。
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